[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及磁盘用玻璃基板的制造方法，特别是涉及对玻璃圆板的主表面进行研磨的方法。

背景技术

近年来对于硬盘驱动器等信息处理设备中所搭载的磁盘的高记录密度化的需要不断增加，在这样的情况下，开始广泛使用玻璃基板来代替以往的铝基板。

磁盘用玻璃基板例如通过在圆形玻璃板的中央开圆孔，并依次进行倒角、主表面抛光、端面镜面研磨，研磨圆形玻璃板的主表面来制造。

为了提高磁盘的记录容量，需要扩大记录面积，希望磁盘用玻璃基板的主表面的平坦部分进一步向外周侧扩展。图1是模式化表示研磨主表面后的磁盘用玻璃基板的端面附近的剖视图，图中的a为倒角面(倒角而得的面)，b为外周端面，c为主表面外周部，d为倒角面a和主表面外周部c的边界，从主表面外周部c至倒角面a连续地产生塌边(端面塌垂)，使记录面积减少。

此外，图1中以虚线表示的直线为用于确定塌边的大小的基准线g。该基准线g定义为与主表面外周部c中自边界d向主表面中心2.5mm～5mm的部分f重合或最近似该部分f的直线。主表面外周部c中自边界d向主表面中心0.25mm～5mm的部分为塌边测定区域e。并且，塌边的大小为塌边测定区域e中的主表面外周部c的自基准线g的最大高度和最小高度的差。

如上所述，为了提高记录容量，必须减少塌边，目前为止除了改善研磨装置之外，还进行研磨液的改善。例如，已知包含水、二氧化硅粉末等磨粒、由聚氧乙烯-聚氧丙烯烷基醚或聚氧乙烯-聚氧丙烯共聚物形成的表面活性剂、无机酸或有机酸的研磨液(参照专利文献1)，包含水、二氧化硅粉末、酸、由磺酸或其盐形成的表面活性剂的pH为0～4的研磨液(参照专利文献2)等。

专利文献1：日本专利特开2002-167575号公报

专利文献2：日本专利特开2007-63372号公报

发明的揭示

如果使用酸性的研磨液，则玻璃表面软化，可通过磨粒进行高效地研磨，研磨速率提高。此外，还具有缺陷少的优点。但是，专利文献1中记载的研磨液中所添加的表面活性剂在酸性区域使二氧化硅的分散性降低，引起凝集。

另一方面，专利文献2中记载的研磨液由于使用含芳香环的表面活性剂，因此虽然具有使塌边减少的效果，但研磨速率低，生产效率方面不佳。

于是，本发明的目的在于，制造磁盘用玻璃基板时，圆形玻璃板的主表面的研磨工序中，在不降低研磨速率的情况下，减少塌边。

为了解决上述的课题，本发明提供：包括使用酸性的研磨液对圆形玻璃板的主表面进行研磨的工序的磁盘用玻璃基板的制造方法，所述研磨液包含主链上结合有选自羧基、羧基的盐、磺酸基和磺酸基的盐的至少1种的水溶性聚合物以及胶态二氧化硅或气相二氧化硅；包括使用酸性的研磨液对圆形玻璃板的主表面进行研磨的工序的磁盘用玻璃基板的制造方法，所述研磨液中，相对于100质量份胶态二氧化硅或气相二氧化硅，包含0.02～0.1质量份具有磺酸基的表面活性剂。

通过本发明中使用的研磨液，可以高效地制造塌边少、即记录面积大而可实现高记录容量的磁盘用玻璃基板。

附图的简单说明

图1是表示主表面研磨后的圆形玻璃基板的外周部附近的模式图。

符号的说明

a：倒角面，b：外周端面，c：主表面外周部，d：倒角面a和主表面外周部c的边界，e：塌边测定区域，g：用于确定塌边的大小的基准线。

实施发明的最佳方式

以下，对本发明进行详细说明。

本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，圆形玻璃板在主表面的研磨之前通过公知的工序进行处理。

例如，从通过浮法成形而得的硅酸盐玻璃切出圆形玻璃板，在其中央开圆孔，依次进行倒角、主表面抛光、端面镜面研磨。

此外，可以将主表面抛光工序分为粗抛光工序和精抛光工序，在它们之间设置形状加工工序(圆形玻璃板中央的开孔、倒角、端面研磨)。在主表面抛光工序后可以设置化学强化工序。还有，在制造中央不具有圆孔的玻璃基板时，当然不需要圆形玻璃板中央的开孔。

接着，进行主表面的研磨。本发明中，作为研磨液，使用包含主链上结合有选自羧基、羧基的盐、磺酸基和磺酸基的盐的至少1种的水溶性聚合物以及胶态二氧化硅或气相二氧化硅的酸性的第一研磨液，或者相对于100质量份胶态二氧化硅或气相二氧化硅包含0.02～0.1质量份具有磺酸基的表面活性剂的酸性的第二研磨液。

(第一研磨液)