[发明专利]光学信息记录介质及用于制造该介质的方法无效
申请号: | 200880001614.4 | 申请日: | 2008-10-22 |
公开(公告)号: | CN101578663A | 公开(公告)日: | 2009-11-11 |
发明(设计)人: | 小山田光明;田部典宏 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;B41M5/26;G11B7/244;G11B7/26 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 宋 鹤;南 霆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 信息 记录 介质 用于 制造 方法 | ||
1.一种光学信息记录介质,包括由光敏聚合物构成的记录层,所述光敏聚合物会由具有特定波长的光照射而固化,其中,由于用于信息记录的光的照射而引起焦点位置附近的温度上升而使所述光敏聚合物被改性以形成记录标记,并且,利用用于信息读取的光的反射率的差异,通过用于信息读取的光的照射来进行对所述记录标记的读取,所述光学信息记录介质的特征在于:
所述记录层对用于信息记录的光的吸收率随着从用于信息记录的光入射那侧算起的深度增大而增加。
2.根据权利要求1所述的光学信息记录介质,其特征在于:
所述记录层包含有机金属化合物。
3.根据权利要求1所述的光学信息记录介质,其特征在于:
所述记录层包含有机染色物质。
4.一种方法,用于制造光学信息记录介质,其特征在于包括:
第一散布步骤,其中,使第一光敏聚合物滴落并散布在第一光学透明基底上;
第二散布步骤,其中,使第二光敏聚合物滴落并散布在第二光学透明基底上;
记录层形成步骤,其中,将在所述第一散布步骤中散布了所述第一光敏聚合物的所述第一光学透明基底与在所述第二散布步骤中散布了所述第二光敏聚合物散布的所述第二光学透明基底接合,使得散布了这些光敏聚合物的表面彼此相对,从而形成记录层;
浓差扩散等待步骤,其中,等待在所述记录层形成步骤中接合的所述第一光敏聚合物与所述第二光敏聚合物之间的界面处发生浓差扩散,使得所述记录层对用于信息记录的光的吸收率随着从用于信息记录的光入射那侧算起的深度增大而增加;以及
记录层固化步骤,其中,使在所述浓差扩散等待步骤中发生了所述浓差扩散的所述记录层固化。
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