[发明专利]光学膜及制备该光学膜的方法有效

专利信息
申请号: 200880002311.4 申请日: 2008-08-13
公开(公告)号: CN101617249A 公开(公告)日: 2009-12-30
发明(设计)人: 蔡昇训;别利亚夫·谢尔盖耶;全炳建;朴文洙 申请(专利权)人: LG化学株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 北京金信立方知识产权代理有限公司 代理人: 朱 梅;黄丽娟
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 光学 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种光学膜,其包括:

至少一层-B膜,和

至少一层由ZnS各向同性材料制成的各向同性层,

其中,所述-B膜与各向同性层之间的平均折射率的差值为至少0.1以上, 其中,各向同性层形成在-B膜上,以及

-B膜为在所有三个方向x、y和z上具有不同折射率的膜,并且符合nx> ny>nz

其中,nx、ny和nz分别表示x轴、y轴和z轴方向上的折射率,z轴表示 厚度方向。

2.根据权利要求1所述的光学膜,其中,由各向同性材料制成的各向同 性层的厚度为1~500nm。

3.根据权利要求1所述的光学膜,其中,所述-B膜是由环烯烃聚合物 或者三乙酰纤维素制成的。

4.一种调节光学膜的波长色散特性的方法,该方法包括:将由ZnS各 向同性材料制成的各向同性层层叠在-B膜上,所述各向同性材料的折射率与 所述-B膜的平均折射率的差值为至少0.1以上;以及,其中各向同性层形成 在-B膜上,以及

-B膜为在所有三个方向x、y和z上具有不同折射率的膜,并且符合nx> ny>nz

其中,nx、ny和nz分别表示x轴、y轴和z轴方向上的折射率,z轴表示 厚度方向。

5.根据权利要求4所述的方法,其中,使用溅射法、涂覆法或者化学气 相沉积法进行各向同性层的层叠。

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