[发明专利]用于调整电容耦合RF等离子体反应器中的电极空隙的装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，包含：

室，包含围绕内部区域并有开口的壁；

悬臂组件包含：

臂单元，延伸穿过该壁的该开口且具有位于该内部 区域外部的外部部分；以及

基板支架，在该臂单元上且设置于该内部区域内；

致动机构，耦合于该臂单元的该外部部分且可操作以使 该悬臂组件相对于该壁运动；以及

至少一个真空隔离构件，密封由该臂单元的该外部部分 和该壁部分围绕，并与该内部区域流体连通的空间，该真空隔 离构件为该空间提供真空隔离以便该悬臂组件上的大气压负 载被平衡。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中：

该基板支架包含具有用以支撑基板的上表面的下电极组 件；

该室进一步包含上电极组件，该上电极组件具有面向该 基板支架且与该基板支架的上表面间隔开的下表面，以在其间 形成空隙；以及

该下电极组件耦合于射频(RF)电源供应。

3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中该下电极组件 包含用于在等离子体处理过程中将该基板固定在适当的位置 的卡盘。

4.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中：

该臂单元包含内部空腔；以及

该室进一步包含：

RF管，位于该空腔内并具有耦合于RF电源供应的 一端且可操作以通过其从该RF电源供应发射RF能量；以及

RF导体，耦合于该RF管的另一端并可操作以收集 该RF能量并将该RF能量发送至该基板支架。

5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其中该RF电源供 应设置于该臂单元的该外部部分，以便该RF电源供应可以与 该悬臂组件一起被该致动机构移动。

6.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其中：

该臂单元电性耦合于该RF管；以及

该悬臂组件进一步包含设置于该臂单元上并与该壁电性 连接的导体环以及将该臂单元从该基板支架电性隔离的绝缘 体。

7.根据权利要求6所述的等离子体处理装置，进一步包含至少一 个连接于该壁和该导体环的挠性导体。

8.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其中该挠性导体是 由BeCu组成的。

9.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中该臂单元包括 开放式内部空腔，且进一步包含至少一个穿过该空腔并耦合于 该基板支架的设施管线。

10.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中该真空隔离构 件包含两个连接于该臂单元的该外部部分和该壁的波纹管，当 该悬臂组件被该致动机构移动时，该波纹管中的一个被拉长而 另一个被压缩。

11.根据权利要求10所述的等离子体处理装置，其中该波纹管是 由金属组成的。

12.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中：

该致动机构包含：

滚珠螺杆，可旋转地固定于该臂单元且可操作以在 被旋转时移动该臂单元；以及

用于旋转该滚珠螺杆的马达。

13.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中：

该上电极组件包含至少一个用于将工艺气体供应到该空 隙的栅板；以及

该射频(RF)电源供应是可操作的以向该下电极组件供 应RF能量以激励该工艺气体以产生等离子体。

14.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，进一步包含约束环 组件，该约束环组件包括至少一个配置为围绕该空隙并由此将 该等离子体限制在该空隙中的约束环。