[发明专利]抛光含钨基材的方法有效
| 申请号： | 200880002578.3 | 申请日： | 2008-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN101600773A | 公开（公告）日： | 2009-12-09 |
| 发明（设计）人： | 罗伯特·瓦卡西;迪内施·卡纳;亚历山大·辛普森 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋 莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 基材 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学机械抛光组合物，其包含：
(a)0.0002M至0.4M的铁离子，
(b)1ppm至400ppm的聚氯化[2-(甲基丙烯酰氧基)乙基]三甲基铵或聚溴 化[2-(甲基丙烯酰氧基)乙基]三甲基铵，
(c)二氧化硅，
(d)丙二酸，
(e)水，及
(f)过氧化氢，
其中该抛光组合物具有1至4的pH值。
2.权利要求1化学机械抛光组合物，其中该抛光组合物进一步包含氨 基酸。
3.权利要求2的化学机械抛光组合物，其中该氨基酸为甘氨酸。
4.权利要求1的化学机械抛光组合物，其中铁离子以0.0002M至0.04M 的浓度存在。
5.权利要求1的化学机械抛光组合物，其中该铁离子由硝酸铁提供。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡伯特微电子公司，未经卡伯特微电子公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880002578.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
