[发明专利]用于保护光掩模的胶粘带有效
| 申请号： | 200880002921.4 | 申请日： | 2008-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN101589340A | 公开（公告）日： | 2009-11-25 |
| 发明（设计）人： | 多田博士;神谷信人 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;C09J7/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 保护 光掩模 胶粘带 | ||
1.一种用于保护光掩模的胶粘带，其包括透明基体材料膜或片(A)、形 成在透明基体材料膜或片(A)的一面上的粘合剂层(B)以及在与形成有粘合 剂层(B)的面相反的一面上形成的表面层(C)，其中，表面层(C)由下述固化 物形成，所述固化物由含有下述(x)和(y)的混合物得到，
(x)：异氰酸酯硅烷，
(y)：末端具有羟基的硅氧烷。
2.根据权利要求1所述的用于保护光掩模的胶粘带，其中，当在基体 材料膜或片(A)和表面层(C)之间设置中间层(D)时，中间层(D)由下述固化物 形成，所述固化物由含有下述(z1)和/或(z2)的混合物得到，
(z1)：三聚氰胺类化合物，
(z2)：胍胺类化合物。
3.根据权利要求1所述的用于保护光掩模的胶粘带，其中，当在基体 材料膜或片(A)和表面层(C)之间未设置中间层(D)时，表面层(C)由下述固化 物形成，所述固化物由含有上述(x)和(y)、同时含有下述(z1)和/或(z2)的混合 物得到，
(z1)：三聚氰胺类化合物，
(z2)：胍胺类化合物。
4.根据权利要求1～3中任1项所述的用于保护光掩模的胶粘带，其中， 异氰酸酯硅烷(x)是3官能和/或4官能异氰酸酯硅烷。
5.根据权利要求4所述的用于保护光掩模的胶粘带，其中，所述3官 能和/或4官能异氰酸酯硅烷是甲基三异氰酸酯硅烷和/或四异氰酸酯硅烷。
6.根据权利要求1～3中任1项所述的用于保护光掩模的胶粘带，其中， 末端具有羟基的硅氧烷(y)是末端具有2个羟基的二醇。
7.根据权利要求2或3所述的用于保护光掩模的胶粘带，其中，三聚 氰胺类化合物(z1)是羟甲基三聚氰胺和/或其衍生物。
8.根据权利要求7所述的用于保护光掩模的胶粘带，其中，所述羟甲 基三聚氰胺是六羟甲基三聚氰胺。
9.根据权利要求2或3所述的用于保护光掩模的胶粘带，其中，胍胺 类化合物(z2)是苯并胍胺和/或其衍生物。
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