[发明专利]用于改善的机械和热机械性能的焊料凸点互连有效

专利信息
申请号: 200880002933.7 申请日: 2008-04-22
公开(公告)号: CN101636831A 公开(公告)日: 2010-01-27
发明(设计)人: 雷南特·阿尔瓦拉多;陆原;理查德·雷德本 申请(专利权)人: 弗利普芯片国际有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 余 刚;吴孟秋
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 改善 机械 机械性能 焊料 互连
【权利要求书】:

1.一种包含输入-输出(IO)上凸点结构的半导体封装,包括:

器件焊盘;

凸点下金属焊盘(UBM);

具有开口的聚合物层;以及

具有开口的钝化层,

其中,从所述器件焊盘的中央到所述器件焊盘的外边缘的 最短距离与从所述UBM的中央到所述UBM的外边缘的最短 距离的比值范围在0.5∶1到0.95∶1,

从所述聚合物层中的开口的中央到所述聚合物层中的开 口的外边缘的最短距离与从所述UBM的中央到所述UBM的 外边缘的最短距离的比值范围在0.35∶1到0.85∶1,并且

从所述钝化层中的开口的中央到所述钝化层中的开口的 外边缘的最短距离与从所述UBM的中央到所述UBM的外边 缘的最短距离的比值范围在0.35∶1到0.80∶1。

2.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,与热应力和机械应 力相关联的力在所述IO上凸点结构上均匀地分布。

3.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述器件焊盘、所 述UBM、所述聚合物层、及所述钝化层采用圆形几何结构。

4.根据权利要求1所述半导体封装,其中,所述器件焊盘、所述 UBM、所述聚合物层、及所述钝化层采用方形几何结构。

5.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述聚合物层是聚 酰亚胺。

6.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述聚合物层是苯 环丁烯(BCB)。

7.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述聚合物层是聚 苯并恶唑。

8.一种包含再分布层(RDL)下层结构的半导体封装,包括:

连接焊盘;

凸点下金属焊盘(UBM);以及

具有开口的聚合物层,

其中,从所述连接焊盘的中央到所述连接焊盘的外边缘的 最短距离与从所述UBM的中央到所述UBM的外边缘的最短 距离的比值范围在0.5∶1到0.95∶1,并且

从所述聚合物层中的开口的中央到所述聚合物层中的开 口的外边缘的最短距离与从所述UBM的中央到所述UBM的 外边缘的最短距离的比值范围在0.35∶1到0.85∶1。

9.根据权利要求8所述半导体封装,其中,与热应力和机械应力 相关联的力在所述RDL下层结构上均匀地分布。

10.根据权利要求8所述的半导体封装,其中,所述连接焊盘、所 述UBM、及所述聚合物层采用圆形几何结构。

11.根据权利要求8所述的半导体封装,其中,所述连接焊盘、所 述UBM、及所述聚合物层采用方形几何结构。

12.根据权利要求8所述的半导体封装,其中,所述聚合物层是聚 酰亚胺。

13.根据权利要求8所述的半导体封装,其中,所述聚合物层是苯 环丁烯(BCB)。

14.根据权利要求8所述的半导体封装,其中,所述聚合物层是聚 苯并恶唑。

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