[发明专利]用于改善的机械和热机械性能的焊料凸点互连有效
申请号: | 200880002933.7 | 申请日: | 2008-04-22 |
公开(公告)号: | CN101636831A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
发明(设计)人: | 雷南特·阿尔瓦拉多;陆原;理查德·雷德本 | 申请(专利权)人: | 弗利普芯片国际有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 余 刚;吴孟秋 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 改善 机械 机械性能 焊料 互连 | ||
1.一种包含输入-输出(IO)上凸点结构的半导体封装,包括:
器件焊盘;
凸点下金属焊盘(UBM);
具有开口的聚合物层;以及
具有开口的钝化层,
其中,从所述器件焊盘的中央到所述器件焊盘的外边缘的 最短距离与从所述UBM的中央到所述UBM的外边缘的最短 距离的比值范围在0.5∶1到0.95∶1,
从所述聚合物层中的开口的中央到所述聚合物层中的开 口的外边缘的最短距离与从所述UBM的中央到所述UBM的 外边缘的最短距离的比值范围在0.35∶1到0.85∶1,并且
从所述钝化层中的开口的中央到所述钝化层中的开口的 外边缘的最短距离与从所述UBM的中央到所述UBM的外边 缘的最短距离的比值范围在0.35∶1到0.80∶1。
2.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,与热应力和机械应 力相关联的力在所述IO上凸点结构上均匀地分布。
3.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述器件焊盘、所 述UBM、所述聚合物层、及所述钝化层采用圆形几何结构。
4.根据权利要求1所述半导体封装,其中,所述器件焊盘、所述 UBM、所述聚合物层、及所述钝化层采用方形几何结构。
5.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述聚合物层是聚 酰亚胺。
6.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述聚合物层是苯 环丁烯(BCB)。
7.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述聚合物层是聚 苯并恶唑。
8.一种包含再分布层(RDL)下层结构的半导体封装,包括:
连接焊盘;
凸点下金属焊盘(UBM);以及
具有开口的聚合物层,
其中,从所述连接焊盘的中央到所述连接焊盘的外边缘的 最短距离与从所述UBM的中央到所述UBM的外边缘的最短 距离的比值范围在0.5∶1到0.95∶1,并且
从所述聚合物层中的开口的中央到所述聚合物层中的开 口的外边缘的最短距离与从所述UBM的中央到所述UBM的 外边缘的最短距离的比值范围在0.35∶1到0.85∶1。
9.根据权利要求8所述半导体封装,其中,与热应力和机械应力 相关联的力在所述RDL下层结构上均匀地分布。
10.根据权利要求8所述的半导体封装,其中,所述连接焊盘、所 述UBM、及所述聚合物层采用圆形几何结构。
11.根据权利要求8所述的半导体封装,其中,所述连接焊盘、所 述UBM、及所述聚合物层采用方形几何结构。
12.根据权利要求8所述的半导体封装,其中,所述聚合物层是聚 酰亚胺。
13.根据权利要求8所述的半导体封装,其中,所述聚合物层是苯 环丁烯(BCB)。
14.根据权利要求8所述的半导体封装,其中,所述聚合物层是聚 苯并恶唑。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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