[发明专利]半导体装置及其制造方法、拾光模块有效

专利信息
申请号: 200880003392.X 申请日: 2008-03-10
公开(公告)号: CN101647115B 公开(公告)日: 2012-04-25
发明(设计)人: 古屋敷纯也;森部省三;宇辰博喜;吉川则之;福田敏行;南尾匡纪;石田裕之 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;G11B7/13;H01L31/0203;H01L23/055;H01L23/10
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法 模块
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,包括半导体元件和装载所述半导体元件的封装 体,其特征在于:

所述封装体具有基板部和第一突起部,所述基板部是矩形,且包括 装载所述半导体元件的装载面,所述第一突起部仅沿着所述装载面的一 对相向的外缘延伸,且所述第一突起部各自位于所述一对相向的外缘中 的一个外缘上,

在各个所述第一突起部上表面设置有沿着所述第一突起部上表面的 外缘延伸的挡坝,同时,覆盖所述半导体元件的上方的盖体的外缘部放 置在比所述挡坝离所述半导体元件近的位置上,且与所述挡坝之间留有 间隙,

所述第一突起部与所述盖体由粘接剂粘接在一起,在存在于所述第 一突起部上表面的盖体的侧面形成由所述粘接剂构成的填角。

2.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于:

所述粘接剂也附着在所述盖体的与所述挡坝相向的侧面上。

3.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于:

沿着设置有所述第一突起部的所述装载面外缘延伸的所述第一突起 部的侧壁、和沿着所述第一突起部上表面的外缘延伸的所述挡坝的外侧 侧壁齐平。

4.一种半导体装置,包括半导体元件和装载所述半导体元件的封装 体,其特征在于:

所述封装体具有基板部、第一突起部以及第二突起部,所述基板部 是矩形,且包括装载所述半导体元件的装载面,所述第一突起部沿着所 述装载面的一对相向的外缘延伸,且各自位于所述一对相向的外缘中的 一个外缘上,所述第二突起部沿着与所述装载面的所述一对相向的外缘 不同的另一对相向的外缘延伸,且所述第二突起部各自位于所述另一对 相向的外缘中的一个外缘上,

在各个所述第一突起部上表面设置有沿着所述第一突起部上表面的 外缘延伸的挡坝,同时,覆盖所述半导体元件的上方的盖体的外缘部放 置在比所述挡坝离所述半导体元件近的位置上,且与所述挡坝之间留有 间隙,

所述第一突起部与所述盖体由粘接剂粘接在一起,在存在于所述第 一突起部上表面的盖体的侧面形成由所述粘接剂构成的填角,

所述第二突起部的与所述另一对相向的外缘正交的方向上的宽度比 所述第一突起部的与所述一对相向的外缘正交的方向上的宽度小。

5.根据权利要求4所述的半导体装置,其特征在于:

所述粘接剂也附着在所述盖体与所述挡坝相向的侧面上。

6.根据权利要求4所述的半导体装置,其特征在于:

沿着设置有所述第一突起部的所述装载面外缘延伸的所述第一突起 部的侧壁、和沿着所述第一突起部上表面的外缘延伸的所述挡坝的外侧 侧壁齐平。

7.根据权利要求4所述的半导体装置,其特征在于:

所述第二突起部与所述盖体由所述粘接剂粘接在一起。

8.一种半导体装置,包括半导体元件和装载所述半导体元件的封装 体,其特征在于:

所述封装体具有基板部和第一突起部,所述基板部是矩形,且包括 装载所述半导体元件的装载面,所述突起部沿着所述装载面的一对相向 的外缘延伸,且所述第一突起部各自位于所述一对相向的外缘中的一个 外缘上,

覆盖所述半导体元件的上方的盖体的外缘部放置在各个所述第一突 起部上表面,

所述第一突起部与所述盖体由粘接剂粘接在一起,在存在于所述第 一突起部上的所述盖体的侧面由所述粘接剂形成填角,在所述填角的与 所述盖体相反的一侧的终端部留有被阻挡过的痕迹。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880003392.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top