[发明专利]中空结构形成基底、其生产方法、用其生产中空结构的方法

权利要求书

1.一种中空结构形成基底，包括：

在其上通过利用可塑性变形材料形成塑性变形膜的表面；

多个规则排列的气体保持空间，每个气体保持空间将气体保持在其中；

多个气体导出部分，每个气体导出部分具有面对所述气体保持空间的 相应一个第一开口和面对所述表面的第二开口，在减压环境条件下所述气 体导出部分将保持在所述气体保持空间内的气体向着所述表面导出；以及

多个渗透防止空间，每个渗透防止空间设置在相应一个所述第一开口 和相应一个所述第二开口之间的空间中，所述渗透防止空间防止所述可塑 性变形材料从所述表面渗透到所述气体保持空间内，

其中，所述塑性变形膜通过从所述气体保持空间经所述渗透防止空间 导出到所述气体导出部分的气体的膨胀压力在所述表面上变形和膨胀，以 形成具有规则排列的中空部分的中空结构。

2.如权利要求1所述的中空结构形成基底，其中，所述气体导出部分 包括柱形开口，并且其中每个气体保持空间包括圆柱形凹陷。

3.如权利要求1所述的中空结构形成基底，其中，所述气体导出部分 包括柱形开口，并且其中每个气体保持空间包括四棱柱形凹陷。

4.如权利要求1所述的中空结构形成基底，其中，每个所述气体导出 部分包括柱形开口，并且其中每个所述气体保持空间包括六棱柱形凹陷。

5.如权利要求4所述的中空结构形成基底，其中，所述气体保持空间 形成六边形紧密排布的结构。

6.如权利要求4所述的中空结构形成基底，其中，所述表面包括分别 在其中央具有所述柱形开口的六边形环形轮廓部分。

7.如权利要求6所述的中空结构形成基底，其中，每个所述环形轮廓 部分包括环形突起。

8.如权利要求6所述的中空结构形成基底，其中，由每个所述环形轮 廓部分围绕的所述表面通过斥水处理进行处理，并且其中每个所述环形轮 廓部分具有亲水性的属性。

9.如权利要求8所述的中空结构形成基底，其中，每个所述环形轮廓 部分包括钛金属膜。

10.如权利要求2至4中任一项所述的中空结构形成基底，其中，每个 所述柱形开口的直径是在5μm和90μm之间。

11.如权利要求2至4中任一项所述的中空结构形成基底，其中，每个 所述柱形开口的直径是在5μm和50μm之间。

12.如权利要求2至4中任一项所述的中空结构形成基底，其中，每个 所述柱形开口的直径是在5μm和30μm之间。

13.如权利要求10所述的中空结构形成基底，其中，每个所述气体导 出部分具有可以被每个所述气体保持空间的体积忽略的体积。

14.如权利要求11所述的中空结构形成基底，其中，每个所述气体导 出部分具有可以被每个所述气体保持空间的体积忽略的体积。

15.如权利要求12所述的中空结构形成基底，其中，每个所述气体导 出部分具有可以被每个所述气体保持空间的体积忽略的体积。

16.如权利要求4所述的中空结构形成基底，还包括：

多个凹陷，每个凹陷截面具有圆弧形构型，并且每个凹陷在其中央底 部包括相应一个所述柱形开口；和

多个分隔壁，所述分隔壁分隔每个相邻的圆弧凹陷，并且每个具有六 边形形状。