[发明专利]用于复杂图案形成的光敏PDMS无效

专利信息
申请号: 200880004198.3 申请日: 2008-08-29
公开(公告)号: CN101790523A 公开(公告)日: 2010-07-28
发明(设计)人: 马宏伟;付龙 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: C07D257/06 分类号: C07D257/06;C08J7/12;B01L3/00;B32B25/20;B32B33/00;C08J7/16
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 顾晋伟;王春伟
地址: 100871 中国北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 复杂 图案 形成 光敏 pdms
【权利要求书】:

1.式I化合物:

其中:

R1是氢或甲基;

R2选自任选地被1~3个R4基团取代的烷基、任选地被1~4个R4基团取代的芳基、任选地被1~4个R4基团取代的环烷基、任选地被1~4个R4基团取代的杂环烷基、以及任选地被1~4个R4基团取代的杂芳基;

X是O或NR3,其中R3是氢或烷基;

L1和L2独立地选自直接键合、任选地被1~2个R4基团取代的亚甲基、任选地被1~4个R4基团取代的(C2-C12)亚烷基、任选地被1~4个R4基团取代的(C6-C12)亚芳基、和任选地被1~4个R4基团取代的(C3-C12)亚环烷基;以及

每个R4独立地选自卤素、硝基、氰基、氧代、氨基酰基、氨基酰氧基、羧基、羧酸酯、碳酸酯、氨基磺酰基、(C1-C10)烷基、(C1-C10)卤代烷基、(C1-C10)烷氧基、(C6-C12)芳基、(C5-C12)杂芳基、(C6-C12)芳氧基、(C3-C12)环烷基以及(C3-C12)杂环烷基。

2.权利要求1的化合物,其中R1是氢。

3.权利要求1的化合物,其中R2是芳基。

4.权利要求1的化合物,其中R2是苯基。

5.权利要求1的化合物,其中X是O。

6.权利要求1的化合物,其中L1是(C2-C12)亚烷基。

7.权利要求1的化合物,其中L1是-(CH2)9-。

8.权利要求1的化合物,其中L2是(C6-C12)亚芳基。

9.权利要求1的化合物,其中L2是亚苯基。

10.权利要求1的化合物,其中R1是氢;R2是芳基;X是O;L1是(C2-C12)亚烷基;和L2是(C6-C12)亚芳基。

11.式II化合物:

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