[发明专利]光催化薄膜、形成光催化薄膜的方法以及覆盖有光催化薄膜的制品无效

专利信息
申请号: 200880004590.8 申请日: 2008-02-08
公开(公告)号: CN101605606A 公开(公告)日: 2009-12-16
发明(设计)人: 克里斯托弗·科多尼尔;志知哲也;胜又健一;胜又靖博;藤岛昭 申请(专利权)人: 东海旅客铁道株式会社
主分类号: B01J35/02 分类号: B01J35/02;B01J23/20;B01J37/08
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张平元
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光催化 薄膜 形成 方法 以及 覆盖 有光 催化 制品
【权利要求书】:

1.一种形成光催化薄膜的方法,该方法包括:在含有碱金属的基体的表面形成含有铌的层,并进行烧制,从而形成含有铌-碱金属复合氧化物的光催化薄膜。

2.权利要求1所述的形成光催化薄膜的方法,其中,所述含有铌的层通过涂布含有铌的涂布剂而形成。

3.一种形成光催化薄膜的方法,该方法包括:在含有碱金属的基体的表面形成含有钽的层,并进行烧制,从而形成含有钽-碱金属复合氧化物的光催化薄膜。

4.权利要求3所述的形成光催化薄膜的方法,其中,上述含有钽的层通过涂布含有钽的涂布剂而形成。

5.权利要求1~4中任一项所述的形成光催化薄膜的方法,其中,所述含有碱金属的基体是钠钙玻璃。

6.权利要求1~4中任一项所述的形成光催化薄膜的方法,其中,所述含有碱金属的基体是利用釉在陶瓷表面形成的玻璃质膜。

7.权利要求1~4中任一项所述的形成光催化薄膜的方法,其中,所述含有碱金属的基体是通过附着搪瓷而在金属制品表面形成的玻璃质膜。

8.权利要求1~7中任一项所述的形成光催化薄膜的方法,其中,上述烧制的温度为400℃以上。

9.权利要求1~7中任一项所述的形成光催化薄膜的方法,其中,上述烧制的温度为500~550℃。

10.一种光催化薄膜,其通过权利要求1~9中任一项所述的形成光催化薄膜的方法而形成。

11.一种覆盖有光催化薄膜的制品,其包括:含有碱金属的基体和设置在上述基体表面的权利要求10所述的光催化薄膜。

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