[发明专利]ALN的块体单晶及其生长方法有效

专利信息
申请号: 200880005464.4 申请日: 2008-01-17
公开(公告)号: CN101680115B 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: R·T·邦德科夫;K·E·摩根;L·J·肖沃尔特;G·A·斯莱克 申请(专利权)人: 晶体公司
主分类号: C30B29/40 分类号: C30B29/40;C30B23/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李帆
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: aln 块体 及其 生长 方法
【权利要求书】:

1.用于生长单晶氮化铝(AlN)的方法,该方法包括以下步骤:

(a)提供包含背衬板的保持器,保持器尺寸和形状经设定以在其中接纳AlN籽晶,且包括与背衬板接合的AlN基底;

(b)在籽晶和AlN基底之间插入Al箔;

(c)熔融Al箔以便用Al层均匀地湿润基底;

(d)将AlN籽晶放置在保持器内;和

(e)在适合于生长源于该籽晶的单晶AlN的条件下将铝和氮沉积到籽晶上。

2.根据权利要求1的方法,还包括调节背衬板以降低背板对于Al的渗透性的步骤。

3.根据权利要求1的方法,其中籽晶是具有至少20mm直径的晶片。

4.根据权利要求3的方法,其中生长成的单晶AlN限定出直径与籽晶的直径相同的晶锭。

5.用于生长单晶氮化铝(AlN)的方法,该方法包括以下步骤:

(a)提供尺寸和形状经设定以在其中接纳AlN籽晶的保持器,该保持器由基本上不可渗透的背衬板构成;

(b)将AlN籽晶放置在保持器内;

(c)在籽晶和背衬板之间插入Al箔;

(d)熔融Al箔以便用Al层均匀地湿润背衬板和AlN籽晶的背面;和

(e)在适合于生长源于该籽晶的单晶AlN的条件下将铝和氮沉积到籽晶上。

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