[发明专利]电灼方法和设备有效
申请号: | 200880005613.7 | 申请日: | 2008-01-31 |
公开(公告)号: | CN101998843A | 公开(公告)日: | 2011-03-30 |
发明(设计)人: | 马克·凯恩;约瑟夫·查尔斯·埃德;本杰明·西奥多·诺代尔;彼得·塞恩·埃德尔斯坦;卡姆兰·内扎特 | 申请(专利权)人: | 阿拉贡外科手术公司 |
主分类号: | A61B18/18 | 分类号: | A61B18/18 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 方法 设备 | ||
1.一种电灼装置,包括:
形成第一电极阵列的多个相邻的第一电极;
至少一个第二电极;
具有与第一电极和所述至少一个第二电极电耦合的输出的电源;
用于选择性地将来自电源的电压施加在第一电极阵列中的任意电极与所述至少一个第二电极之中的两个或多个电极之间的装置;和
用于确定所述第一电极中的任意电极与所述至少一个第二电极之中的至少一个的组织覆盖面积的装置。
2.权利要求1的装置,其中所述至少一个第二电极包括至少一个返回电极。
3.权利要求1的装置,所述第一电极和所述第二电极中之中的至少一个具有圆形边缘,用于将在电极之间和在任何过渡表面处出现的边缘效应最小化。
4.权利要求1的装置,所述第一电极和所述至少一个第二电极之中的至少一个还包括:
涂有电介质或非导电材料的电极表面,其允许通过电容耦合在所述电极之间传输射频能量。
5.权利要求4的装置,所述第一电极和所述至少一个第二电极之中的至少一部分具有定义小于0.5mm的绝缘间隙的间隔关系。
6.权利要求4的装置,所述电极表面涂层包括聚合物。
7.权利要求6的装置,所述聚合物包括下述任意一个:
特富龙,钛、钨和钽中任一个的金属氧化物,或者陶瓷材料。
8.权利要求4的装置,所述表面涂层包括:
至少一个涂层。
9.权利要求1的装置,所述用于选择性地施加来自电源的电压的装置还包括:
用于以防止相邻电极同时或顺序放电的选定放电顺序启动所述电极的装置。
10.权利要求4的装置,所述用于确定组织覆盖面积的装置包括:
用于测量射频电压和电流的相位角度的装置;
其中所述电介质涂层形成与组织的电容耦合;和
其中对于给定的电介质涂层厚度,电容是覆盖面积的函数。
11.权利要求1的装置,所述电源包括:
射频生成器,其选择性地可由所述用于选择性地施加来自电源的电压的装置操作,以电感的形式插入共轭阻抗,从而消除与全覆盖电极的容抗,并允许测量射频电压和电流的相位角度;
其中当电极仅被部分覆盖时,电容改变;和
其中作为结果,电抗和射频电压和电流的相位角度改变。
12.权利要求11的装置,所述用于选择性地施加来自电源的电压的装置还包括:
射频生成器控制算法,其用于在检测到较小电极表面积时改变射频生成器频率以维持最大功率传送,同时最小化电弧放电和非最佳的和/或过度的能量传送。
13.权利要求12的装置,所述用于选择性地施加来自电源的电压的装置还包括:
用于通过确定相位和/或阻抗的快速改变来检测电弧放电和防止非最佳的和/或过度的能量传送的装置。
14.权利要求13的装置,用于检测电弧放电和防止非最佳的和/或过度的能量传送的装置还包括:
用于使用仅由组织部分覆盖的电极向所述射频生成器算法发送信号以便缩短或改变处理参数的装置。
15.权利要求11的装置,所述用于选择性地施加来自电源的电压的装置还包括:
用于维持在所述射频生成器和组织之间的阻抗匹配的装置;
其中当相位角度大约为零时实现阻抗匹配。
16.权利要求15的装置,所述用于维持所述射频生成器和组织之间的阻抗匹配的装置还包括:
补偿增加的容抗的一个或多个电抗元件。
17.权利要求16的装置,所述用于维持所述射频生成器和组织之间的阻抗匹配的装置还包括下述任意一个:
用于插入具有有限范围和接近无限解析度的连续可变电感器的装置,其中所述电感器可调整至接近零相位;
用于插入分立元件以发现最低相位的装置;和
用于改变所述射频生成器的频率的装置,其中所述射频生成器通过电气改变频率来补偿相位差。
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