[发明专利]基于硅聚合物的抗反射涂料组合物

权利要求书

1.一种包含硅聚合物的能够在光致抗蚀剂层之下形成交联涂层的抗反射涂料组合物，其中该硅聚合物包含至少一种具有结构1的单元，

其中R₁选自C₁-C₄烷基。

2.权利要求1的抗反射涂料组合物，其中硅聚合物进一步包含具有能够吸收用于使光致抗蚀剂曝光的辐射的吸收性发色团的单体单元。

3.权利要求2的抗反射涂料组合物，其中发色团选自含有以下的化合物：烃芳环、取代和未取代的苯基、取代和未取代的蒽基、取代和未取代的菲基、取代和未取代的萘基、取代和未取代的含有选自氧、氮、硫的杂原子的杂环芳环，或其组合。

4.权利要求2或3的抗反射涂料组合物，其中具有吸收性发色团的单体单元具有结构3，

其中n＝0-4。

5.权利要求1-4任一项的抗反射涂料组合物，其进一步包含交联催化剂。

6.权利要求1的抗反射涂料组合物，其中该组合物基本上不含含有Si-H和/或Si-卤素的单元或者其中该组合物具有少于10个Si-OH/100个Si原子。

7.权利要求5的抗反射涂料组合物，其中催化剂选自光酸产生剂、热酸产生剂和盐。

8.权利要求1-7任一项的抗反射涂料组合物，其中该组合物进一步包含染料。

9.权利要求8的抗反射涂料组合物，其中染料包含发色团，该发色团选自含有以下的化合物：烃芳环、取代和未取代的苯基、取代和未取代的蒽基、取代和未取代的菲基、取代和未取代的萘基、取代和未取代的含有选自氧、氮、硫的杂原子的杂环芳环，或其组合。

10.一种形成图像的方法，其包括：

a)在基底上提供权利要求1-9任一项的抗反射涂料组合物的涂层；

b)提供光致抗蚀剂层；

c)将顶层和底层对相同波长的光化辐射成像式曝光；

d)对基底进行曝光后烘焙；

e)用含水碱性溶液将光致抗蚀剂层显影。