[发明专利]载有不连续电极的基板、包括它的有机发光器件、及其制备有效
申请号: | 200880005787.3 | 申请日: | 2008-02-25 |
公开(公告)号: | CN101617418A | 公开(公告)日: | 2009-12-30 |
发明(设计)人: | S·恰库罗夫 | 申请(专利权)人: | 法国圣-戈班玻璃公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 程大军 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 载有 连续 电极 包括 有机 发光 器件 及其 制备 | ||
1.一种用于有机发光器件的基板,该基板在主面上载有不连续 电极(2a~2"c),从基板开始,该不连续电极连续地包括:
-基于金属氧化物的接触层;
-基于银的具有固有导电性能的金属功能层,所述功能层的厚度小于 100nm;以及
-逸出功匹配覆盖层,
所述电极的表面电阻等于或小于5Ω/carré,
该电极为至少一排电极区的形式,其中所述电极区在所述排的(X)方 向的第一尺寸(l)为至少3cm,该排的电极区以距离(d1)隔开,该距离等于 或小于0.5mm,绝缘材料(3)被填充在电极区之间的空隙中,并突出到电 极区以外。
2.权利要求1的用于有机发光器件的基板,其特征在于:该绝缘 材料(3)是丝网印刷的,或者该绝缘材料(3)是通过喷墨沉积的绝缘墨水。
3.权利要求2的用于有机发光器件的基板,其中绝缘材料(3)是聚 合物的。
4.权利要求2的用于有机发光器件的基板,其中绝缘材料(3)是丙 烯酸树脂或聚酰胺树脂。
5.权利要求2的用于有机发光器件的基板,其中绝缘材料(3)覆盖 电极区的外围边缘。
6.权利要求1-5之一的用于有机发光器件的基板,其特征在于: 所述不连续电极(2a~2"c)是不经光刻法得到的,是通过采用蚀刻膏的化学 丝网印刷得到的,或者通过掩模法得到的。
7.权利要求6的用于有机发光器件的基板,其中不连续电极 (2a~2"c)是不经光刻法、通过激光蚀刻得到的。
8.权利要求6的用于有机发光器件的基板,其中所述掩模法采用 由丝网印刷或喷墨沉积材料制成的掩模。
9.权利要求1-5之一的用于有机发光器件的基板,其特征在于: 对于厚度等于或小于20nm的功能层,其表面电阻等于或小于5Ω/carré, 透光率TL等于或大于60%,且吸收因子A小于10%。
10.权利要求1-5之一的用于有机发光器件的基板,其特征在于: 所述金属功能层基于纯银,或基于银与Au、Pd、Al、Pt、Cu、Zn、Cd、 In、Si、Zr、Mo、Ni、Cr、Mg、Mn、Co或Sn的合金,或基于掺杂Au、 Pd、Al、Pt、Cu、Zn、Cd、In、Si、Zr、Mo、Ni、Cr、Mg、Mn、Co或 Sn的银。
11.权利要求10的用于有机发光器件的基板,其中所述金属功能 层基于金/银。
12.权利要求1-5之一的用于有机发光器件的基板,其特征在于: 所述覆盖层基于以下任选掺杂的金属氧化物的至少一种:氧化铬、氧化 铟、任选亚化学计量的氧化锌、氧化铝、氧化钛、氧化钼、氧化锆、氧 化锑、氧化锡、氧化钽和氧化硅。
13.权利要求12的用于有机发光器件的基板,所述覆盖层的厚度 为3~50nm。
14.权利要求1-5之一的用于有机发光器件的基板,其特征在于: 覆盖层由ITO制成,其厚度等于或小于30nm。
15.权利要求1-5之一的用于有机发光器件的基板,其特征在于: 接触层基于掺杂或未掺杂的金属氧化物。
16.权利要求15的用于有机发光器件的基板,其中接触层基于ITO 或IZO。
17.权利要求1-5之一的用于有机发光器件的基板,其特征在于: 金属功能层(32)直接沉积在至少一个下面相邻的阻隔涂层(31')上,所述下 面相邻的阻隔涂层(31')位于接触层上,和/或直接在至少一个上面相邻的 阻隔涂层(32')下。
18.权利要求17的用于有机发光器件的基板,其特征在于:至少 一个阻隔涂层包括基于以下金属的至少一种的金属、金属氮化物和/或金 属氧化物的层:Ti、V、Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Zr、Hf、Al、Nb、Ni、 Cr、Mo、Ta和W,或者基于所述材料的至少一种的合金。
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