[发明专利]等离子体处理装置的清洗方法、执行该清洗方法的等离子体处理装置以及储存执行该清洗方法的程序的存储介质

权利要求书

1.一种等离子体处理装置的清洗方法，在能够抽真空的处理容器内对被处理体使用等离子体实施等离子体处理，具有：

第一清洗工序，在向所述处理容器内供给清洗气体，并产生等离子体，将所述处理容器内维持为第一压力而进行清洗；

第二清洗工序，在向所述处理容器内供给清洗气体，并产生等离子体，将所述处理容器内维持为比所述第一压力高的第二压力而进行清洗，

根据累计膜厚量及每单位时间的清洗膜厚量求出上述第一及第二清洗工序的各处理时间，利用时间管理来求出上述第一清洗工序和上述第二清洗工序之间的切换时机，和/或基于来自在所述处理容器内产生的等离子体的发光量来求出所述第一清洗工序与所述第二清洗工序之间的切换的时机。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置的清洗方法，其中，在进行了所述第一清洗工序后，进行所述第二清洗工序。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理装置的清洗方法，其中，在进行了所述第二清洗工序后，进行所述第一清洗工序。

4.根据权利要求1所述的等离子体处理装置的清洗方法，其中，所述第一压力为10mTorr-小于750mTorr的范围内，所述第二压力为750mTorr-5Torr的范围内。

5.根据权利要求1所述的等离子体处理装置的清洗方法，其中，对所述处理容器的壁面及/或放置所述被处理体的载置台进行加热。

6.一种等离子体处理装置，具备：

能够抽真空的处理容器；

载置台，其为了载置被处理体而设于所述处理容器内；

气体供给机构，其用于向所述处理容器内供给气体；

等离子体形成机构，其用于在所述处理容器内产生等离子体；及

控制机构，其按照执行权利要求1至5中任意一项所述的清洗方法的方式来进行控制。

7.根据权利要求6所述的等离子体处理装置，其中，在所述载置台及/或所述处理容器的壁面中设有加热机构。