[发明专利]用于组织的光学分析的方法和设备有效
申请号: | 200880006248.1 | 申请日: | 2008-02-22 |
公开(公告)号: | CN101622566A | 公开(公告)日: | 2010-01-06 |
发明(设计)人: | B·H·W·亨德里克斯;A·T·M·范戈夫 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G02B21/00 | 分类号: | G02B21/00;A61B5/00;A61B1/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 康正德;谭祐祥 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 组织 光学 分析 方法 设备 | ||
1.分析组织(70)的方法,其包括:
-用在聚焦区域(40)聚焦的光照射组织(70);
-将从聚焦区域(40)返回的光采集到第一探测设备(100A)中, 所述第一探测设备(100A)被设置为在第一探测区域(140A) 上通过共焦光谱法仅采集从聚焦区域(40)返回的光,以生成 包含关于组织的光学属性的信息的第一信号;
-将从聚焦区域(40)散射到至少第二区域(60)并从第二区域 (60)返回的光收集到第二探测设备(100B)中,所述第二探 测设备(100B)被设置为在第二探测区域(140B)上仅采集从 第二区域(60)返回的光,以生成第二信号,
-使用第一和第二信号以获得关于在聚焦区域(40)和第二区域 (60)之间的区域中的组织(70)的散射和/或吸收系数的信 息,
其中,所述第一探测设备(100A)包括第一探测器(120A)和第 一孔(110A),所述第一孔(110A)位于所述第一探测器(120A)前 方从而仅仅透过来自所述聚焦区域(40)的光,并且其中所述第二探 测设备(100B)包括第二探测器(120B)和第二孔(110B),所述第 二孔(110B)位于所述第二探测器(120B)前方从而仅仅透过来自所 述第二区域(60)的光,所述探测设备(100A,100B)包括至少一个 板,并且所述孔(110A,110B)在所述至少一个板中。
2.根据权利要求1所述的方法,其中为了通过共焦光谱法扫描组 织(70)而照射多个聚焦区域(40),以获得关于组织(70)的3D结 构的信息,并且组合关于散射和/或吸收系数的信息与关于组织(70) 的3D结构的信息,以获得作为组织(70)中的3D位置的函数的关于 组织(70)的散射和/或吸收系数的信息。
3.根据权利要求2所述的方法,其中对于每个聚焦区域(40)从 多个第二区域(60)采集光。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所 述探测设备(100A,100B)被进一步设置以测量组织(70)的荧光。
5.用于分析组织(70)的设备,其包括:
-用在聚焦区域(40)聚焦的光照射组织(70)的装置(10);
-用于采集从聚焦区域(40)返回的光的第一探测设备(100A), 所述第一探测设备(100A)被设置为在第一探测区域(140A) 上通过共焦光谱法仅采集从聚焦区域(40)返回的光,以生成 包含关于组织(70)的光学属性的信息的第一信号;
-用于采集从聚焦区域(40)散射到至少第二区域(60)且从第 二区域(60)返回的光的第二探测设备(100B),所述第二探 测设备(100B)被设置为在第二探测区域(140B)上仅采集从 第二区域(60)返回的光,以生成第二信号,
-用于使用第一和第二信号以获得关于在聚焦区域和第二区域之 间的区域中的组织(70)的散射和/或吸收系数的信息的装置,
其中,所述第一探测设备(100A)包括第一探测器(120A)和第 一孔(110A),所述第一孔(110A)位于所述第一探测器(120A)前 方从而仅仅透过来自所述聚焦区域(40)的光,并且其中所述第二探 测设备(100B)包括第二探测器(120B)和第二孔(110B),所述第 二孔(110B)位于所述第二探测器(120B)前方从而仅仅透过来自所 述第二区域(60)的光,所述探测设备(100A,100B)包括至少一个 板,并且所述孔(110A,110B)在所述至少一个板中。
6.根据权利要求5所述的设备,其中第一和第二探测设备(100A, 100B)的每一个都包括位于探测器(120A,120B)前方且具有至少一 个孔(110A,110B)以定义探测区域(140A,140B)的板。
7.根据权利要求6所述的设备,其中所述探测器(120A,120B) 不在同一平面内。
8.根据权利要求5所述的设备,其中所述探测设备(100A,100B) 均包括置于各探测器前方的且具有至少一个孔的公共板。
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