[发明专利]硅基抗反射涂料组合物

权利要求书

1.一种聚合物，其包含具有至少一个Si-OH基团和至少一个 Si-OR基团的硅氧烷聚合物，其中R是任选地具有反应性官能团的缩 合稳定基团，其中所述硅氧烷聚合物，当被放入溶剂中时，在40℃老 化一周之后由GPC测定的重均分子量增量小于或等于50％，其中所述 缩合稳定基团选自醇的残基，具有式R₁R₂R₃SiR₄的化合物，其中R₁、R₂、 R₃和R₄各自独立地选自氢、卤化物、C_1-10烷基、C_2-4烯基、C_3-10环烷基、 芳基、C_1-10烷氧基、酰氧基、芳氧基、甲硅烷氧基、甲硅烷氧基硅烷、 其中R₈和R₉各自选自C_1-10烷基的NR₈R₉、其中R₆和R₇各自独立地选自 氢、C_1-10烷基或者R₆和R₇连同它们键合的碳原子一起形成C_3-6环烷基 环的ON＝CR₆R₇，或者具有式(R₁₂)₃Si-Y-Si(R₁₂)₃的化合物，其中每个R₁₂独立地选自C_1-4烷基、C_1-4烷氧基和卤素；和Y是连接基团，并且其中 所述硅氧烷聚合物包含一个或多个三官能硅氧烷单元(T)，

和一个或多个四官能硅氧烷单元(Q)，

其中当结合的氧原子与另一硅原子键接时p的值为0.5，当结合 的氧原子与硅原子之外键接时p的值为1，条件是每个T和Q单元中 的至少一个p具有0.5的值；每个R₁₀独立地选自烷基、烯基、炔基、 环烷基、芳基、烷芳基、芳烷基、(烷基)丙烯酸酯、(烷基)丙烯 酰氧基烷基、(烷基)丙烯酰氧基烯基、环氧官能基团和酸酐官能基 团；所述硅氧烷聚合物中的T和Q单元的总数大于或等于50％，

其中，式R₁R₂R₃SiR₄或(R₁₂)₃Si-Y-Si(R₁₂)₃的所述缩合稳定基团与 所述硅氧烷聚合物反应，从而Si-OH基团被Si-OR代替。

2.权利要求1的聚合物，其中Si-OH基团和Si-OR基团以1∶5- 5∶1的比率存在。

3.一种制备如权利要求1或2所述的聚合物的方法，其包括如 下步骤：形成具有至少一个Si-OH基团的硅氧烷聚合物；使至少一个 但不是所有的所述Si-OH基团与任选地具有反应性官能团的缩合稳定 基团反应，其中所述聚合物当被放入溶剂中时，在40℃老化一周之后 由GPC测定的重均分子量增量小于或等于50％。

4.一种抗反射涂料组合物，其包含：

a)权利要求1或2的聚合物；和

b)溶剂。

5.权利要求4的组合物，其中对于b)，所述溶剂为醇。

6.一种涂布的基底，其包括：在其上具有权利要求4或5的抗 反射涂料组合物的抗反射涂膜的基底。

7.权利要求6的涂布的基底，其中固化之后，所述抗反射涂膜 具有大于或等于15％的硅含量。

8.一种用于形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，其包括：在基底 上施加权利要求4或5的组合物的层；和在权利要求4或5的组合物 的所述层上施加化学放大光致抗蚀剂组合物的层。