[发明专利]具有斥水性区域的图案的处理基材及其制造方法、以及形成有功能性材料的膜构成的图案的构件的制造方法

权利要求书

1.处理基材，它是在基材表面具有斥水性区域的图案的处理基材，其特 征在于，该斥水性区域由使固化性组合物固化而获得的斥水性固化膜形成，该 固化性组合物包含下述化合物(A1)或者下述化合物(A2)和下述化合物(B)，还包 含根据需要任意使用的光固化促进化合物(C)，

化合物(A1)：具有与硅原子结合的氢原子和光固化性基团的聚有机硅氧 烷，

化合物(A2)：具有与硅原子结合的氢原子但不具有光固化性基团的聚有机 硅氧烷，

化合物(B)：具有光固化性基团的化合物；

其中，光固化性基团是丙烯酰基或甲基丙烯酰基，光固化促进化合物(C) 是利用光产生自由基的自由基产生剂。

2.处理基材，它是在基材表面具有斥水性区域的图案的处理基材，其特 征在于，该斥水性区域由使固化性组合物固化而获得的斥水性固化膜形成，该 固化性组合物包含下述化合物(A1)或者下述化合物(A2)和下述化合物(B)，还包 含根据需要任意使用的光固化促进化合物(C)，

化合物(A1)：具有与硅原子结合的氢原子和光固化性基团的聚有机硅氧 烷，

化合物(A2)：具有与硅原子结合的氢原子但不具有光固化性基团的聚有机 硅氧烷，

化合物(B)：具有光固化性基团的化合物；

其中，光固化性基团为1，2-环氧基，光固化促进化合物(C)是利用光产生 阳离子的阳离子产生剂。

3.如权利要求1或2所述的处理基材，其特征在于，斥水性区域以外的 基材表面与水的接触角为50度以下，斥水性区域与水的接触角为70度以上。

4.如权利要求1或2所述的处理基材，其特征在于，斥水性固化膜的膜 厚为0.1～100nm。

5.如权利要求1或2所述的处理基材，其特征在于，所述化合物(A1)或 所述化合物(A2)中，与硅原子结合的氢原子的数目以每个硅原子的平均数计为 0.1～1.0个。

6.表面具备斥水性区域的图案的处理基材的制造方法，其特征在于，通 过依次包括下述工序的方法来制造表面具备由斥水性固化膜形成的斥水性区 域的图案的处理基材，所述工序分别是：

在基材表面形成含有下述固化性组合物的涂膜的工序，

对该涂膜的表面的一部分照射光，使得被光照射的部分的固化性组合物固 化而形成斥水性固化膜的工序，以及

将存在于基材表面的未固化的固化性组合物除去的工序；

固化性组合物是包含下述化合物(A1)或者下述化合物(A2)和下述化合物 (B)、还包含根据需要任意使用的光固化促进化合物(C)的固化性组合物，

化合物(A1)：具有与硅原子结合的氢原子和光固化性基团的聚有机硅氧 烷，

化合物(A2)：具有与硅原子结合的氢原子但不具有光固化性基团的聚有机 硅氧烷，

化合物(B)：具有光固化性基团的化合物；

其中，光固化性基团是丙烯酰基或甲基丙烯酰基，光固化促进化合物(C) 是利用光产生自由基的自由基产生剂。