[发明专利]位置测量模块、位置测量装置、平台装置、曝光装置以及元件制造方法

权利要求书

1、一种位置测量模块，其特征在于包括：

移动镜，设置于移动体，且沿着第1轴方向具有反射面；

检测光单元，针对上述第1轴方向上排列着的多个测量轴中的每一个而配置，沿着与上述第1轴方向交叉的第2轴方向对上述移动镜照射检测光；

基准光单元，包含固定在与上述移动体不同的构件上的固定镜，且对该固定镜照射基准光；

多个光路结合元件，针对每一个上述测量轴，对由上述移动镜反射的上述检测光的各检测光路进行光路结合，或者对经由上述基准光单元的上述基准光的基准光路与上述检测光路进行光路结合；以及

检测部，对经由上述光路结合元件而入射的上述检测光与上述基准光的干涉所引起的干涉条纹进行检测，并根据该干涉条纹的检测结果，测量上述移动体在上述第2轴方向上的位置。

2、如权利要求1所述的位置测量模块，其特征在于多个上述测量轴是以2束或2束以上的上述检测光无法同时照射至上述移动镜的间隔进行排列。

3、如权利要求1或2所述的位置测量模块，其特征在于多个上述测量轴排列于上述第1轴方向上的上述移动体的移动范围内。

4、如权利要求1至3中任一项所述的位置测量模块，其特征在于上述基准光单元包含选择照射机构，该选择照射机构针对每一个上述测量轴而设置，对上述固定镜选择性地照射以及不照射上述基准光。

5、如权利要求4所述的位置测量模块，其特征在于包括选择照射控制部，该选择照射控制部使上述基准光单元的上述选择照射机构择一性地作动，该选择照射机构对应于与第1上述检测光单元相邻的第2上述检测光单元，该第1上述检测光单元对上述移动镜照射上述检测光。

6、如权利要求4所述的位置测量模块，其特征在于包括选择照射控制部，该选择照射控制部使上述基准光单元的上述选择照射机构择一性地作动，该选择照射机构对应于对上述移动镜照射上述检测光的上述检测光单元。

7、如权利要求4至6中任一项所述的位置测量模块，其特征在于上述选择照射机构包含快门机构以及插拔机构中的至少一个，该快门机构选择性地开启及关闭上述基准光对上述固定镜的光路，该插拔机构对上述检测光的光路选择性地插拔上述固定镜。

8、如权利要求1至3中任一项所述的位置测量模块，其特征在于上述检测部，相应于上述移动体的上述第1轴方向的位置，来对经由第1上述检测光单元的上述检测光及经由上述基准光单元的上述基准光所引起的第1干涉条纹，或者经由第2上述检测光单元的上述检测光及该基准光所引起的第2干涉条纹进行检测。

9、如权利要求1至8中任一项所述的位置测量模块，其特征在于包括频率调变器，该频率调变器使上述检测光以及上述基准光中的至少一者的频率产生变化，且在上述检测光与上述基准光之间生成频率差；

上述检测部对上述干涉条纹进行外差检测。

10、如权利要求9所述的位置测量模块，其特征在于上述频率调变器针对每一个上述测量轴而设置，使每一个该测量轴的上述频率的变化量不同。

11、如权利要求1至8中任一项所述的位置测量模块，其特征在于包括将频率以及偏光面不同的上述检测光与上述基准光加以射出的光源装置；上述检测部对上述干涉条纹进行外差检测。

12、如权利要求1至10中任一项所述的位置测量模块，其特征在于包括：

光源装置，对多个上述检测光单元供给激光；以及

光量调节机构，对每一个上述测量轴，调节作为上述检测光而分支的上述激光的分支光量比。

13、如权利要求12所述的位置测量模块，其特征在于上述光源装置供给直线偏光的上述激光，上述光量调节机构含有使上述激光透射的1/2波长板。

14、一种位置测量装置，其特征在于，包括多个如权利要求1至13中任一项所述的位置测量模块，

多个上述位置测量模块中的第1位置测量模块的第1及第2上述测量轴之间，配置着第2位置测量模块的上述测量轴。

15、如权利要求14所述的位置测量装置，其特征在于上述第1位置测量模块的上述测量轴与上述第2位置测量模块的上述测量轴，是以比上述第1轴方向上的上述移动镜的反射面尺寸窄的间隔而配置。