[发明专利]MEK抑制剂

权利要求书

1、式(I)的化合物：

其中

G是R_1a、R_1b、R_1c、R_1d、R_1e、Ar₁、Ar₂或Ar₃；

R₀、R₁和R₂独立地选自H、卤素、氰基、氰甲基、硝基、二氟甲氧基、 二氟甲氧基、三氟甲基、叠氮基、CO₂R₅、OR₅、-O-(CO)-R₅、-O-C(O)-N(R₅)₂、 -NR₅C(O)NR₆R₇、-SR₅、NHC(O)R₅、-NHSO₂R₅、SO₂N(R₅)₂、C1-C6烷基、 C1-C4烷氧基、C3-C6环烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、芳基、烷芳基、 芳烷基和杂环基；其中

所述烷基、环烷基、烯基、芳基、烷芳基、芳烷基、杂环基和炔 基任选地被1-3个独立地选自卤素、OH、CN、氰甲基、硝基、苯基、 二氟甲氧基、二氟甲氧基和三氟甲基的取代基取代；

所述C1-C6烷基和C1-C4烷氧基任选地被OCH₃或OCH₂CH₃取 代；

每个R₅选自H、低级烷基、被取代的低级烷基、芳基、或被取代 的芳基、和NR₇R₆；

其中R₆和R₇各自独立地选自氢或低级烷基；

X是F、Cl或甲基；

Y是I、Br、Cl、CF₃、C1-C3烷基、C2-C3烯基、C2-C3炔基、环丙基、 苯基、吡啶基、吡唑基、OMe、OEt或SMe，其中

X和Y的所有所述甲基、乙基、C1-C3烷基以及环丙基任选地被 OH取代；

Y的所有所述苯基、吡啶基、吡唑基任选地被卤素、乙酰基、甲 基和三氟甲基取代；并且

X和Y的所有所述甲基任选地被1个、2个或3个F原子取代；

Z是H、甲基、C1或F；并且

A、D、J、L、Q、U独立地选自-CH、-NH、N、O和-N(CH₃)-；

并且其中

R_1a是甲基、环丙氧基或C1-C4烷氧基；其中

所述甲基任选地被OH、1-3个氟原子或1-3个氯原子取代；

所述C1-C4烷氧基的C1-C4烷基部分任选地被1个羟基或甲氧基 取代；并且

所述C1-C4烷氧基中所有的C2-C4烷基任选地进一步被第二个羟 基取代；

R_1b是CH(CH₃)-C1-3烷基或C3-C6环烷基，所述CH₃、烷基和环烷基 任选地被1-3个独立地选自F、Cl、Br、I、OH、C1-C4烷氧基和CN的取 代基取代；

R_1c是(CH₂)_nO_mR′，其中

m是0或1；其中

当m是1时，n是2或3，并且

当m是0时，n是1或2；

R′是任选地被1-3个独立地选自F、Cl、OH、OCH₃、OCH₂CH₃和C3-C6环烷基的取代基取代的C1-C6烷基；

R_1d是C(A′)(A″)(B)-，其中

B、A′和A″独立地是H或者任选地被1或2个OH基团或卤素原 子取代的C1-4烷基，或者

A′和A″与它们所连接的碳原子一起形成3-至6-元饱和环，所述环 任选地包含1个或2个独立地选自O、N和S的杂原子，并任选地被 1个或2个独立地选自甲基、乙基和卤代的基团取代；

R_1e是苯甲基或2-苯基乙基，其中所述苯基是任选地被取代的

其中

q是1或2；

R₈和R₉独立地是H、F、Cl、Br、CH₃、CH₂F、CHF₂、CF₃、OCH₃、 OCH₂F、OCHF₂、OCF₃、乙基、正丙基、异丙基、环丙基、异丁基、 仲丁基、叔丁基和甲磺酰基；

R₁₀是H、F、Cl、Br、CH₃、CH₂F、CHF₂、CF₃、OCH₃、OCH₂F、 OCHF₂、OCF₃、乙基、正丙基、异丙基、环丙基、异丁基、仲丁基、 叔丁基和甲磺酰基、硝基、乙酰氨基、脒基、氰基、氨基甲酰基、甲 基氨基甲酰基、二甲基氨基甲酰基、1，3，4-噁二唑-2-基、5-甲基-1，3，4-5- 噁二唑基、1，3，4-噻二唑基、5-甲基-1，3，4-噻二唑-1H-四唑基、N-吗啉 基羰基氨基、N-吗啉基磺酰基或N-吡咯烷基羰基氨基；

R₁₁和R₁₂独立地是H、F、Cl或甲基；

Ar₁是

其中

W和V独立地是N、CR₁或CR₂；

R₈、R₉和R₁₀独立地是H、F、Cl、Br、CH₃、CH₂F、CHF₂、CF₃、 OCH₃、OCH₂F、OCHF₂、OCF₃、乙基、正丙基、异丙基、环丙基、 异丁基、仲丁基、叔丁基和甲磺酰基，并且R₁₀也可以是硝基、乙酰 氨基、脒基、氰基、氨基甲酰基、甲基氨基甲酰基、二甲基氨基甲酰 基、1，3，4-噁二唑-2-基、5-甲基-1，3，4-噁二唑基、1，3，4-噻二唑基、5-甲 基-1，3，4-噻二唑1H-四唑基、N-吗啉基羰基氨基、N-吗啉基磺酰基和 N-吡咯烷基羰基氨基；

R₁₁和R₁₂独立地是H、F、Cl或甲基；

Ar₂是

其中

点划线代表形式上可以位于V和W与V间的碳原子之间、或位 于W和W与V间的碳原子之间的双键；

W是-S-、-O-或-N＝，其中

当W是-O-或-S-时，V是-CH＝、-CCl＝或-N＝；并且

当W是-N＝时，V是CH＝或-NCH₃-；

R₁₃和R₁₄独立地是氢、甲氧羰基、甲基氨基甲酰基、乙酰氨基、 乙酰基、甲基、乙基、三氟甲基或卤素；

Ar₃是

其中

W是-NH-、-NCH₃-或-O-；并且

R₁₃和R₁₄独立地是H、F、Cl或甲基。