[发明专利]双折射薄膜、层压薄膜和图像显示装置

权利要求书

1.一种双折射薄膜，其含有显示出溶致液晶性且由下述通 式X1表示的第1苊并[1，2-b]喹喔啉衍生物和显示出溶致液晶性 且由下述通式Y1表示的第2苊并[1，2-b]喹喔啉衍生物，折射率 椭球体满足nx≥nz＞ny的关系，式中，nx、ny分别是指在双折射 薄膜的面内相互垂直的方向的折射率，其中，nx＞ny，nz是指双 折射薄膜的厚度方向的折射率，

其中，式X1和式Y1中，A各自独立地表示选自-COOM、 -SO₃M、-PO₃M、-OM、-NH₂和-CONH₂的取代基，其中，M为 抗衡离子；a表示A的取代数，为1～3的整数；B各自独立地表示 选自卤素原子、-COOM、-SO₃M、-PO₃M、-OM、-NH₂、-NO₂、 -CF₃、-CN、-OCN、-SCN、-CONH₂、-OCOCH₃、-NHCOCH₃、 碳原子数1～4的烷基和碳原子数1～4的烷氧基的取代基，其中， M为抗衡离子；b表示B的取代数，为0～4的整数。

2.根据权利要求1所述的双折射薄膜，前述第1苊并[1，2-b] 喹喔啉衍生物由下述通式X2表示，

其中，式X2中，A、B和b与式X1中的A、B和b相同。

3.根据权利要求1所述的双折射薄膜，前述第1苊并[1，2-b] 喹喔啉衍生物由下述通式X3表示，

其中，式X3中，A和a与式X1中的A和a相同。

4.根据权利要求3所述的双折射薄膜，前述通式X3的A为 -COOM或-SO₃M。

5.根据权利要求1所述的双折射薄膜，前述第2苊并[1，2-b] 喹喔啉衍生物由下述通式Y2表示，

其中，式Y2中，A、B和b与式Y1中的A、B和b相同。

6.根据权利要求1所述的双折射薄膜，前述第2苊并[1，2-b] 喹喔啉衍生物由下述通式Y3表示，

其中，式Y3中，A和a与式Y1中的A和a相同。

7.根据权利要求6所述的双折射薄膜，前述通式Y3的A为 -COOM或-SO₃M。

8.根据权利要求1所述的双折射薄膜，其中，相对于100 质量份总固体成分，包含1质量份～99质量份前述第1苊并[1，2-b] 喹喔啉衍生物、包含1质量份～99质量份前述第2苊并[1，2-b]喹喔 啉衍生物。

9.根据权利要求1所述的双折射薄膜，其通过将包含前述 第1苊并[1，2-b]喹喔啉衍生物和前述第2苊并[1，2-b]喹喔啉衍生 物的溶液涂布到基材上、干燥而获得。

10.根据权利要求1所述的双折射薄膜，波长590nm下的面 内的相位差值Re[590]为20nm～1000nm，其中，Re[590]是指在 23℃下、波长590nm下的双折射薄膜的面内的相位差值，Re[590] 通过将双折射薄膜的厚度设为d时的Re[590]＝(nx-ny)×d求得，d 的单位为nm。

11.根据权利要求1所述的双折射薄膜，波长590nm下的厚 度方向的相位差值Rth[590]为0nm～1000nm，其中，Rth[590]是 指在23℃下、波长590nm下的双折射薄膜的厚度方向的相位差 值，Rth[590]通过将双折射薄膜的厚度设为d时的 Rth[590]＝(nx-nz)×d求得，d的单位为nm。

12.根据权利要求1所述的双折射薄膜，Nz系数为0～0.5， Nz系数为以波长590nm为基准、由Rth[590]/Re[590]算出的值， 其中，Rth[590]和Re[590]的定义与上述相同。