[发明专利]基于光子光栅的电磁辐射放大系统有效
申请号: | 200880009047.7 | 申请日: | 2008-03-21 |
公开(公告)号: | CN101636885A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
发明(设计)人: | D·法塔尔;M·西加拉斯;R·博索莱尔;C·桑托里 | 申请(专利权)人: | 惠普开发有限公司 |
主分类号: | H01S3/06 | 分类号: | H01S3/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张雪梅;刘春元 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 光子 光栅 电磁辐射 放大 系统 | ||
1.一种电磁辐射放大系统(900,1300,1600),包括:
光子光栅(200-500),配置有板(202-402)中的平面周期孔点阵, 该板具有第一表面和与第一表面相对定位的第二表面,所述孔从第一 表面延伸到第二表面;
嵌入在所述板内的电磁辐射发射器;以及
泵浦源(902,1302,1602),配置成输出电子激励到所述光子光栅, 所述电子激励在所述电磁辐射发射器中激发电子能态,其中所述孔配 置为使得入射在第一表面上的电磁辐射的相干束在所述光子光栅内 形成谐振并且激励被激发的发射器发射电磁辐射,以产生从第二表面 输出的并且具有与电磁辐射的入射束基本相同的波长且比电磁辐射 的入射束幅度更大的电磁辐射束。
2.如权利要求1所述的系统,其中所述光子光栅的电磁辐射发射 器还包括如下其中之一:
嵌入在所述板中的一种或多种掺杂物;
由具有不同介电常数的交替半导体层形成的一个或多个量子阱 (1700,1800);以及
量子点。
3.如权利要求1所述的系统,其中所述板还包括如下其中之一:
电介质;
二氧化硅;
氮化硅;以及
有机材料。
4.如权利要求1所述的系统,其中所述平面周期孔点阵还包括如 下其中之一:
方形单位单元(206,306);以及
三角形单位单元(404,502)。
5.如权利要求1所述的系统,其中所述光子光栅还包括附连到所 述光子光栅的表面的第一导体(1606)和附连到所述光子光栅(1604) 的相对表面的第二导体(1608),使得第一导体和第二导体与电压源 (1602)电连接,并且第一导体和第二导体包括基本上透明的电介质导 体和以孔图案化的金属电极之一,以允许从所述光子光栅发射第二相 干信号。
6.如权利要求1所述的系统,其中所述泵浦源还包括光源(1302), 所述光源配置成输出具有将所述光子光栅激发到激发电子能态的频 率的电磁辐射束。
7.一种用于放大光的方法,包括:
提供具有板中的平面周期孔点阵以及嵌入在所述板中的电磁辐 射发射器的光子光栅(200-500),该板具有第一表面和与第一表面相 对定位的第二表面,所述孔从第一表面延伸到第二表面;
泵浦所述光子光栅以将所述板的电磁辐射发射器置于较高电子 能态;
将电磁辐射的相干束输入到所述光子光栅上,所述电磁辐射的束 在所述平面周期孔点阵的平面之外的方向入射在第一表面上并且在 所述光子光栅内形成谐振,其中所述电磁辐射的相干束激励电磁辐射 发射器发射电磁辐射,该电磁辐射放大所述电磁辐射的相干束;以及
从第二表面输出电磁辐射的放大束。
8.如权利要求7所述的方法,其中泵浦所述光子光栅还包括如下 其中之一:
在所述光子光栅上施加电压,使得所述电压将所述板的电磁辐射 发射器置于较高电子能态;以及
施加将所述板的电磁辐射发射器置于较高电子能态的电磁辐射 入射束。
9.如权利要求7所述的方法,其中所述光子光栅还包括附连到所 述光子光栅的表面的第一导体(1606)和附连到所述光子光栅(1604) 的相对表面的第二导体(1608),使得第一导体和第二导体与电压源 (1602)电连接,并且第一导体和第二导体是电介质导体。
10.如权利要求7所述的方法,其中电磁辐射的放大相干束与电 磁辐射的入射相干束具有基本上相同的波长、相位和方向。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠普开发有限公司,未经惠普开发有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880009047.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。