[发明专利]污染物阻止系统、光刻设备、辐射源和制造器件的方法

权利要求书

1.一种污染物阻止系统，其用于在使用时阻止从辐射源发射的材料与辐射一起传播进入光刻设备，所述污染物阻止系统包括：

通道阻挡件，其设置有多个布置有侧壁的细长的通道，所述通道布置用于横向穿过来自所述源的辐射，所述侧壁布置用以吸收或偏转所述材料，其中

所述污染物阻止系统布置有冷却系统。

2.根据权利要求1所述的污染物阻止系统，其中所述通道阻挡件借助于连接到通道阻挡件的驱动器能够围绕旋转轴线旋转，所述驱动器包括轴承，所述冷却系统基本上设置在所述轴承附近。

3.根据权利要求1所述的污染物阻止系统，其中所述通道阻挡件借助于连接到通道阻挡件的驱动器能够围绕旋转轴线旋转，所述冷却系统设置在所述通道阻挡件上，优选地设置在所述通道阻挡件的外表面上。

4.根据前述权利要求任一项所述的污染物阻止系统，其中所述冷却系统包括流体。

5.根据前述权利要求2-4中任一项所述的污染物阻止系统，其中所述污染物阻止系统构造并布置成使得所述旋转轴线与连接到所述污染物阻止系统的所述光刻设备的光学系统的光轴重合。

6.根据前述权利要求任一项所述的污染物阻止系统，其中所述通道阻挡件包括通道构件，所述通道构件平行于所述辐射传播的方向。

7.根据权利要求6所述的污染物阻止系统，其中所述通道构件是板形的。

8.根据权利要求5所述的污染物阻止系统，其中靠近所述光轴设置的所述通道构件在垂直于所述光轴的平面内形成蜂巢结构并且平行或基本上平行于所述光轴延伸。

9.根据前述权利要求2-8任一项所述的污染物阻止系统，其中所述驱动器布置用以以1到200转/秒之间的速度旋转所述通道阻挡件。

10.根据前述权利要求任一项所述的污染物阻止系统，其中所述污染物阻止系统设置有补充通道阻挡件，所述补充通道阻挡件基本上相对于所述通道阻挡件同轴地安装。

11.根据权利要求10所述的污染物阻止系统，其中所述污染物阻止系统构造并布置成使得所述旋转轴线与连接到所述污染物阻止系统的所述光刻设备的光学系统的光轴重合，所述补充通道阻挡件相对于所述光轴可旋转地安装。

12.根据权利要求11所述的污染物阻止系统，其中所述补充通道阻挡件具有与所述通道阻挡件的旋转方向相反的旋转方向。

13.根据前述权利要求任一项所述的污染物阻止系统，其中所述通道阻挡件是整体式的。

14.根据前述权利要求任一项所述的污染物阻止系统，其中所述通道构件配置成梯形，其具有布置在所述源位置处的较窄部分。

15.根据前述权利要求任一项所述的污染物阻止系统，其中所述通道构件相对于所述光轴是凸形的。

16.根据前述权利要求2-15中任一项所述的污染物阻止系统，其中所述驱动器与轴承分离地布置在所述光轴上。

17.一种光刻投影设备，其中设置有根据前述权利要求中任一项所述的污染物阻止系统。

18.一种辐射源，其中设置有根据前述权利要求中任一项所述的污染物阻止系统。

19.一种通过光刻工艺制造集成结构的方法，所述方法包括步骤：

提供辐射系统，所述辐射系统配置用以将由辐射源发射的辐射形成投影辐射束；

图案化所述投影辐射束；

将图案化的投影辐射束投影到至少部分地覆盖有辐射敏感材料的衬底的目标部分上；

在所述辐射源附近设置污染物阻止系统，用于阻止从所述源发射的材料与所述辐射一起传播；

使用包括流体的冷却系统来冷却所述污染物阻止系统。

20.根据权利要求19所述的方法，其中所述污染物阻止系统包括通道阻挡件，所述通道阻挡件包括多个细长的通道构件，每一个所述通道构件具有用于吸收或偏转所述材料的侧壁，所述方法包括使用所述冷却系统来冷却所述通道阻挡件的步骤，所述冷却系统优选地布置在所述通道阻挡件的外表面上。