[发明专利]一种清洗液及其应用有效
| 申请号： | 200880009264.6 | 申请日： | 2008-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN101657531A | 公开（公告）日： | 2010-02-24 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;杨春晓 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/18 | 分类号： | C11D7/18;C11D7/32;H01L21/302 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203中国上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 及其 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种清洗液，其特征在于：含有至少一种氧化剂、至少一种胍类化合物和 水，其中，所述的胍类化合物为胍、碳酸胍、乙酸胍、磷酸氢二胍、硝酸 胍、硫酸胍、氨基胍、氨基胍碳酸氢盐、氨基胍磺酸盐、氨基胍盐酸盐或 氨基胍硝酸盐，所述的氧化剂为过氧化氢、过氧化脲、过氧甲酸或过氧乙 酸；
其中，所述的胍类化合物的含量为质量百分比0.01-10％，所述的氧化剂的 含量为质量百分比0.1-10％；
其中，所述的清洗液的pH值为7～12。
2.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的清洗液的pH值为8～ 11。
3.根据权利要求1所述的清洗液在化学机械抛光后晶片清洗中的应用。
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