[发明专利]软磁性薄带、磁芯、磁性部件及制备软磁性薄带的方法有效
申请号: | 200880009320.6 | 申请日: | 2008-03-04 |
公开(公告)号: | CN101641455A | 公开(公告)日: | 2010-02-03 |
发明(设计)人: | 太田元基;吉泽克仁 | 申请(专利权)人: | 日立金属株式会社 |
主分类号: | C22C38/00 | 分类号: | C22C38/00;C21D6/00;C22C45/02;H01F1/153;H01F3/04;H01F10/13;H01F41/24 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 陈 平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁性 磁芯 部件 制备 方法 | ||
1.一种软磁性薄带,其包含:基体,其中晶粒粒径为60nm以下但不 包括0的晶粒以30%以上的体积分数分散在非晶形相中;和在所述基体的表 面侧形成的非晶形层;晶体层,所述的晶体层包含晶体组织,形成于所述 软磁性薄带的顶表面上;其中所述非晶形层形成在所述晶体层内侧,其中 所述软磁性薄带由组成式Fe100-x-yAxXy表示,其中A是选自Cu和Au中的至少 一种元素;X由B和选自由Si,S,C,P,Al,Ge,Ga和Be组成的组中的 至少一种元素组成;B的含量范围为10原子%以上且20原子%以下;并且按 原子%计,x和y分别由0<x≤5和10≤y≤24定义。
2.根据权利要求1所述的软磁性薄带,其包含在所述非晶形层和所述 基体之间的粗晶粒层,其中所述粗晶粒层包含粒径大于所述基体中的所述 晶粒的平均粒径的晶体。
3.根据权利要求1所述的软磁性薄带,其中在施加磁场后的剩余磁通 量密度Br与在80A/m的磁场中的磁通量密度B80的比率Br/B80为90%以上。
4.一种磁芯,其包含根据权利要求1的软磁性薄带,其中在1.5T的磁 通量密度和50Hz,所述磁芯的铁损为0.5W/kg以下。
5.一种软磁性薄带,其包含:在离所述薄带的表面的深度为120nm 的位置的基体,其中晶粒粒径为60nm以下但不包括0的晶粒以30%以上的 体积分数分散在非晶形相中;和在离所述薄带的表面为小于120nm的深度 形成的非晶形层;晶体层,所述的晶体层包含晶体组织,形成于所述软磁 性薄带的顶表面上;其中所述非晶形层形成在所述晶体层内侧,其中所述 软磁性薄带由组成式Fe100-x-yAxXy表示,其中A是选自Cu和Au中的至少一种 元素;X由B和选自由Si,S,C,P,Al,Ge,Ga和Be组成的组中的至少 一种元素组成;B的含量范围为10原子%以上且20原子%以下;并且按原子 %计,x和y分别由0<x≤5和10≤y≤24定义。
6.根据权利要求5所述的软磁性薄带,其包含在所述非晶形层和所述 基体之间的粗晶粒层,其中所述粗晶粒层包含粒径大于所述基体中的所述 晶粒的平均粒径的晶体。
7.一种磁芯,其使用根据权利要求5的软磁性薄带,其中所述磁芯的 铁损为0.65W/kg以下,所述铁损是在1.6T的磁通量密度和50Hz的频率测 量的。
8.一种磁性部件,其包含根据权利要求1至3和5至6中任何一项所述的 软磁性薄带或根据权利要求4或7的磁芯。
9.一种用于制备根据权利要求1至3和5至6中任何一项所述的软磁性 薄带的方法,该方法包括以下步骤:将含有Fe和准金属元素的熔融合金快 速冷却,以制备Fe-基合金,所述Fe-基合金包含其中平均粒径为30nm以下 但不包括0nm的晶粒以大于0%并且小于30%的体积分数分散在非晶形相 中的组织;和将所述的Fe-基合金进行退火,以形成其中平均粒径为60nm 以下的体心立方结构的晶粒以30%以上的体积分数分散在所述的非晶形相 中的组织,其中进行所述退火步骤使得在300℃以上的平均升温速度为 100℃/min以上。
10.根据权利要求9所述的用于制备软磁性薄带的方法,其中所述Fe- 基合金由组成式Fe100-x-yAxXy表示,其中A是选自Cu和Au中的至少一种元 素;X是选自由B,Si,S,C,P,Al,Ge,Ga和Be组成的组中的至少一 种元素;并且按原子%计,x和y分别由0<x≤5和10≤y≤24定义。
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