[发明专利]水晶振子片及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200880009904.3 申请日: 2008-03-26
公开(公告)号: CN101657965A 公开(公告)日: 2010-02-24
发明(设计)人: 加藤晶子;森谷卓 申请(专利权)人: 西铁城控股株式会社
主分类号: H03H9/215 分类号: H03H9/215;G01C19/56;G01P9/04;H01L41/09;H01L41/18;H01L41/22;H03H3/02;H03H9/19;H01L21/306
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 何腾云
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 水晶 振子片 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及水晶振子片及其制造方法,尤其涉及具有对发生作为 面外振动的漏振(漏れ振動)加以抑制的构造的水晶振子片及其制造 方法。

背景技术

用于振动罗盘的音钗型的水晶振子,通过把水晶片(ウエハ)切 成所需形状的水晶振子片的工序、形成用来将水晶振子片起振的电极 的工序,和把形成有电极的水晶振子片安装在容器中的工序等进行制 造。尤其是,由于水晶振子片的形状很大程度上对决定了振动的设备 性能造成影响,因此,把水晶片切成水晶振子片的工序很重要。

图8是表示水晶振子片的结晶轴的图。

如图8所示,水晶振子片由在与水晶的Z轴垂直的面切成的Z板、 从Z板绕X轴转动0~10°的水晶片100等进行加工。绕X轴转动之 后的水晶片的结晶轴为X、Y’、Z’。即,水晶片100的主面为X-Y’ 面。

图9是从水晶片100切成的水晶振子片110的简图。

图9(a)是水晶振子片110的正面简图,图9(b)是表示图9(a) 中的A-A’截面图的一例的图,图9(c)是表示图9(a)中的A-A’截 面图的另一例的图。

水晶振子片110由支撑部111、基部112和振动腿113构成。进行 振动的部分是振动腿113。振动腿113以X轴为横向、Y’轴为纵向、 Z’轴为厚度方向。

在将水晶片100切成所述水晶振子片110的工序中,采用使用了 可以高精度并廉价地大量生产小型的水晶振子片的光刻法(フオトリ ソグラフイ)和液体蚀刻法(ウエツトエツチング)的方法。

图10是表示水晶振子片的制造方法的图,图10中示出了水晶振 子片的振动腿截面。

首先,如图10(b)所示,在图10(a)所示的被调整成所需板厚 的水晶片100的两面,形成对水晶用的蚀刻液具有耐腐蚀性的金属耐 腐蚀膜200a、200b,和配置在金属耐腐蚀膜200a、200b上的光刻胶 (フオトレジスト)201a、201b。

接着,如图10(c)所示,使用互相相向地对合时正确重合的被 分别描画了振子图案的2片光掩模205、206,将光刻胶201a、201b 曝光。

接着,使光刻胶201a、201b显影。接着如图10(d)所示,把通 过显影形成的光刻胶图案作为掩模对金属耐腐蚀膜200a、200b印刻图 形,形成水晶蚀刻用的蚀刻掩模207a、207b。

接着,将光刻胶剥离。接着,把在表背两面形成有蚀刻掩模207a、 207b的水晶片101浸渍到氟酸类的蚀刻液中,如图10(e)所示,把 未被蚀刻掩模207a、207b覆盖的部分的水晶从表背两侧溶解。接着, 将蚀刻掩模207a、207b除去,得到图9(a)所示的水晶振子片110。

另外,已知仅仅在蚀刻掩模的一个面上印刻图形,将另一个面整 个覆盖金属耐腐蚀膜,从单面进行蚀刻的水晶振子片的制造方法(例 如参照专利文献1)。

进而,已知如图11所示的,使蚀刻掩模的背面图形207d的宽度 比表面图形207c的宽度大,以表面图形207c为基准图形进行蚀刻的 水晶振子片的制造方法(例如参照专利文献2)。

图12是用来说明水晶振子片的振动方向的图。

图12(a)是水晶振子片的轴测图,图12(b)是表示12(a)中 的A-A’截面中的振动方向的一例的图,图12(c)是表示12(a)中 的A-A’截面中的振动方向的另一例的图。

如图12(a)所示,当把音钗型水晶振子用于振动罗盘时,把X 轴方向的弯曲振动用作驱动振动、把Z’轴方向的弯曲振动用作在有角 速度的情况下的检测振动。因此,在没有角速度的状态下,如图12(b) 所示,必定不会产生Z’轴方向的振动。但是,用现有的制造方法制作 的音钗型水晶振子中,实际上即使在没有角速度的情况下,如图12(c) 所示,有时也观测到了Z’轴方向的振动成分。所述从斜向振动出现的 Z’轴方向的振动成分被称作漏振,由于不能与检测振动加以区分,所 以,存在使罗盘的S/N恶化、使温度特性恶化的问题。

另外,即使是通常用途的音钗型水晶振子,音钗型水晶振子的振 动也是利用X轴方向的弯曲振动产生,存在着包含Z’方向成分的斜向 振动会造成晶体阻抗上升、招致特性恶化的问题。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西铁城控股株式会社,未经西铁城控股株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880009904.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top