[发明专利]光产酸剂用化合物以及使用它的抗蚀剂组合物、图案形成方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂组合物，该组合物含有基础树脂、产酸剂以 及溶剂而成，其特征在于，所述产酸剂是三苯基锍2-(1’-金刚 烷)羰氧基-1,1-二氟乙烷磺酸盐或三苯基锍2-(3’-羟基-1’-金 刚烷)羰氧基-1,1-二氟乙烷磺酸盐，所述基础树脂是含有以下 式(11)、(12)、(8)或(9)表示的重复单元的高分子化合物，

在上述式(11)中，R⁷表示氢原子、卤素原子、烃基、含 氟烷基，R¹⁰、R¹¹、R¹²中的任一个是CF₃C(CF₃)(OH)CH₂-基， 其余2个是氢原子，

在上述式(12)中，R⁷与式(11)的R⁷意义相同，R¹³为 氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔 丁基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲基或全氟乙基，

在上述式(8)中，R⁷与式(11)的R⁷意义相同，R¹⁴表 示三氟甲基，R¹⁵是氢原子、碳原子数1～25的直链、支链或者 环状烃基或者含芳香族烃基的基团，其一部分还任选含有氟原 子、氧原子、羰基键，r表示0～2的任意整数，m、q表示1～8 的任意整数，满足m≤q+2，当R¹⁴～R¹⁵是多个的情况下，R¹⁴～ R¹⁵彼此相同或不同，

在上述式(9)中，X表示-CH₂-、-O-、-S-任意一个，t表 示1～6的整数，

其中所述基础树脂为由酸的作用引起相对于碱显影液的溶 解性变化的基础树脂。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，权 利要求1中的重复单元是以式(11)表示的重复单元。

3.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于权利 要求1中的重复单元是以式(12)表示的重复单元。

4.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，权 利要求1中的重复单元是以式(8)表示的重复单元。

5.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，基 础树脂含有以式(9)表示的重复单元。

6.一种化学放大正型抗蚀剂组合物，其中，含有权利要求 1～5中任一项中所述的基础树脂、权利要求1中所述的产酸剂 以及溶剂，上述基础树脂不溶或难溶于显影液，通过酸使其能 溶于显影液。

7.一种图案形成方法，其特征在于，其包括：在基板上涂 布权利要求1～6中任一项所述的抗蚀剂组合物的工序；加热处 理后隔着掩模以波长300nm以下的高能射线进行曝光的工序； 根据需要加热处理后，使用显影液进行显影的工序。

8.根据权利要求7所述的图案形成方法，其特征在于，其 为利用波长193nm的ArF受激准分子激光，在晶圆和投影透镜 之间插入水的浸没式光刻法。