[发明专利]在反射衬底上制造可转换的液晶偏振光栅的方法和相关装置

权利要求书

1.一种制造可转换的液晶偏振光栅的方法，所述方法包括：

制造掩模层以包括利用相干光在其中限定的全息图案；

在衬底上形成光对准层；

利用所述掩模层光刻图案化所述光对准层以根据所述全息图案 在所述光对准层中创建周期性对准条件；以及

在所述图案化的光对准层上形成液晶层使得所述液晶层的分子 根据所述光对准层中的所述周期性对准条件被对准。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述掩模层包括可聚合液晶 偏振光栅。

3.如权利要求1所述的方法，其中制造所述掩模层包括：

将掩模层与手性掺杂剂一起形成。

4.如权利要求1所述的方法，其中光刻图案化所述光对准层包 括：

穿过在其中包含所述全息图案的所述掩模层传播紫外(UV)光使 得所述掩模层的空间变化近场输出被转移到所述光对准层以在所述 光对准层中创建所述周期性对准条件。

5.如权利要求4所述的方法，其中所述UV光是弱相干的，并且 其中所述掩模层具有这样的厚度，所述厚度被配置成为所述紫外光的 波长范围提供半波延迟。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述衬底包括反射衬底，并 且进一步包括：

在透射衬底上形成第二光对准层；

利用所述掩模层光刻图案化所述第二光对准层以根据所述全息 图案在所述第二光对准层中创建所述周期性对准条件；以及

邻近所述反射衬底组装所述透射衬底以在所述第一和第二光对 准层之间限定间隙，

其中形成所述液晶层包括直接在所述第一和第二光对准层上在 所述间隙中形成所述液晶层使得所述液晶层的分子根据所述第一和 第二光对准层的所述周期性对准条件被对准。

7.如权利要求6所述的方法，其中在所述第一和第二光对准层 之间的所述间隙为大约半波延迟厚度。