[发明专利]等离子体监控装置及其方法有效

专利信息
申请号: 200880012597.4 申请日: 2008-04-10
公开(公告)号: CN101689497A 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: 申兴铉;安祐正 申请(专利权)人: 株式会社SNU精密
主分类号: H01L21/3065 分类号: H01L21/3065
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 代理人: 张 晶
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 等离子体 监控 装置 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种等离子监控装置,其特征在于,包括:

等离子供给装置,具有电源供给部,用于供给电源;供给线,用 于供给反应气体;放射喷嘴,向处理对象物放射所述等离子供给装置 内部所产生的等离子;

摄像部,其以图像映像方式获得从所述等离子供给装置放射的等 离子放射状态;以及

控制部,其用于对针对所述图像映像的像素信息进行数值化而获 得的测定值和针对正常放射状态下的图像映像进行数值化而获得的 基准值进行比较,以控制等离子的放射状态,

所述等离子供给装置配置在所述处理对象物的上侧或下侧中的 任一侧,用于向所述处理对象物的表面放射等离子,所述摄像部朝着 所述等离子供给装置而配置。

2.根据权利要求1所述的等离子监控装置,其特征在于,所述 控制部根据测定值和基准值的比较结果,调节通过等离子供给装置的 电源供给部供给的电源,控制等离子的放电条件,从而调节等离子的 放射量。

3.根据权利要求1所述的等离子监控装置,其特征在于,所述 等离子供给装置在反应气体供给线上配置有用于调节反应气体供给 量的调节装置,

所述控制部根据测定值和基准值的比较结果,通过等离子供给装 置的调节装置调节等离子的放射量。

4.根据权利要求2或3所述的等离子监控装置,其特征在于, 所述摄像部彼此相隔一定距离而配置多个。

5.根据权利要求4所述的等离子监控装置,其特征在于,当处 理处理对象物的两面时,为了向处理对象物的上面和底面放射等离 子,分别配置所述等离子供给装置,并在所述等离子供给装置的对向 侧分别配置摄像部。

6.根据权利要求5所述的等离子监控装置,其特征在于,所述 摄像部为电荷耦合器件摄像机。

7.一种等离子监控方法,其特征在于,包括:

通过基于放电的反应气体的离子化来产生等离子,并向处理对象 物供给等离子的步骤;

利用电荷耦合器件摄像机以图像映像方式获得所述等离子放射 状态的步骤;

分析所述图像映像的像素信息获得测定值的步骤;

比较所述测定值和正常放射状态下的基准值的比较步骤;以及

当所述测定值和基准值不一致时调节等离子供给量的调节步骤。

8.根据权利要求7所述的等离子监控方法,其特征在于,在所 述比较步骤中,通过比较测定值和基准值来判断两者是否相同,测定 值是否大于基准值,还是小于基准值。

9.根据权利要求7所述的等离子监控方法,其特征在于,所述调 节步骤根据比较步骤的比较结果,如果测定值与基准值相同,则判断 放射状态良好,并维持反应气体的供给量;如果测定值大于基准值, 则减少反应气体的供给量;如果测定值小于基准值,则增加反应气体 的供给量,以增加等离子的产生量。

10.根据权利要求7至9中任何一项所述的等离子监控方法,其 特征在于,所述调节步骤根据比较步骤的比较结果,如果测定值与基 准值相同,则判断放射状态良好,并维持等离子的放电条件;如果测 定值大于基准值,则减少等离子的放电条件;如果测定值小于基准值, 则加大等离子的放电条件,以控制等离子的产生量。

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