[发明专利]电极箔及其制造方法以及电解电容器无效
申请号: | 200880012854.4 | 申请日: | 2008-04-18 |
公开(公告)号: | CN101689429A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
发明(设计)人: | 今中佳彦;船桥稔;石塚英俊;山田胜治 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社 |
主分类号: | H01G9/055 | 分类号: | H01G9/055 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁香兰 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电极 及其 制造 方法 以及 电解电容器 | ||
1.一种电极箔的制造方法,其特征在于,
在气溶胶腔室的制膜室内设置铝箔,
使铝粉末气溶胶化,
将所述气溶胶化的铝粉末向设置在所述制膜室内的铝箔喷射,在所 述铝箔上堆积铝颗粒,
其中进一步对堆积了所述铝颗粒的面在硼酸氨己二酸铵水溶液中进 行化学处理。
2.如权利要求1所述的电极箔的制造方法,其特征在于,
设置在所述制膜室内的铝箔的表面通过电解蚀刻处理进行了粗面 化。
3.如权利要求1或2所述的电极箔的制造方法,其特征在于,
在所述化学处理之前,对所述铝箔的堆积了所述铝颗粒的面侧进行 蚀刻处理。
4.一种电极箔的制造方法,其特征在于,
在气溶胶腔室的制膜室内设置表面经蚀刻处理的铝箔,
使陶瓷粉末气溶胶化,
将所述气溶胶化的陶瓷粉末向设置在所述制膜室内的铝箔喷射,在 所述铝箔上堆积陶瓷颗粒,
其中进一步对堆积了所述陶瓷颗粒的面在硼酸氨己二酸铵水溶液中 进行化学处理。
5.一种电极箔的制造方法,其特征在于,
在气溶胶腔室的制膜室内设置表面经蚀刻处理的铝箔,
使铝粉末和陶瓷粉末的混合物气溶胶化,
将所述气溶胶化的铝粉末和陶瓷粉末的混合物向设置在所述制膜室 内的铝箔喷射,在所述铝箔上堆积铝颗粒和陶瓷颗粒,
其中进一步对堆积了所述铝颗粒和所述陶瓷颗粒的面进行化学处 理。
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