[发明专利]用以在处理腔室内支撑、定位及旋转基板的设备与方法

权利要求书

1.一种用于基板的基板支撑组件，至少包含：

底板，所述底板设以提供第一气流来提高所述基板；

温度受控的热边缘阻挡件，所述热边缘阻挡件至少部分围绕所述基板；及

用于将所述基板定位于所述温度受控的热边缘阻挡件内的装置，其中用以 定位所述基板的装置包括多个空气轴承边缘辊与空气摩擦气穴的至少一个，所 述空气轴承边缘辊被浮动套管环绕。

2.如权利要求1所述的基板支撑组件，其中所述底板具有多个第一穿孔， 所述多个第一穿孔以同心圆方式绕着所述底板的中心轴排列，所述多个第一穿 孔用以引导所述第一气流。

3.如权利要求2所述的基板支撑组件，还包括下底板，所述下底板置于 所述底板下方并与所述底板接触，其中所述下底板包括第一通道以引导所述第 一气流至多个穿孔。

4.如权利要求3所述的基板支撑组件，其中所述底板还具有多个第二穿 孔，所述多个第二穿孔与所述多个第一穿孔相邻，所述多个第二穿孔以同心圆 方式绕着所述底板的中心轴排列，其中所述多个第二穿孔用以提供真空。

5.如权利要求4所述的基板支撑组件，其中所述下底板还包括第二通道， 以引导所述真空至所述多个第二穿孔。

6.如权利要求1所述的基板支撑组件，其中所述底板包括第一沟槽，所 述第一沟槽以同心圆方式绕着所述底板的中心轴排列，所述第一沟槽用以引导 所述第一气流。

7.如权利要求6所述的基板支撑组件，其中所述底板还包括第二沟槽， 所述第二沟槽与所述第一沟槽相邻，所述第二沟槽以同心圆方式绕着所述底板 的中心轴排列，其中所述第二沟槽用以提供真空。

8.如权利要求1所述的基板支撑组件，其中所述底板包括透明材料。

9.如权利要求1所述的基板支撑组件，其中所述底板包括多个第一斜向 穿孔，所述多个第一斜向穿孔用以引导第三气流来旋转所述基板。

10.如权利要求9所述的基板支撑组件，其中所述底板还包括多个第二斜 向穿孔，所述多个第二斜向穿孔用以引导第四气流来旋转所述基板。

11.如权利要求10所述的基板支撑组件，其中所述多个第一斜向穿孔与 所述多个第二斜向穿孔处于相对角度上。

12.如权利要求1所述的基板支撑组件，还包含多个气流气穴，所述多个 气流气穴用以提供旋转力给所述基板。

13.如权利要求12所述的基板支撑组件，其中所述多个气流气穴包括压 力井与低压井。

14.如权利要求1所述的基板支撑组件，其中所述热边缘阻挡件是环状形 式的环形主体，设置在所述底板的顶部。

15.如权利要求1所述的基板支撑组件，其中所述热边缘阻挡件设置及固 定在位于所述底板中的环形沟槽中。

16.如权利要求1所述的基板支撑组件，其中所述空气轴承边缘辊用以定 位所述基板，又不会让所述基板接触所述热边缘阻挡件。

17.如权利要求1所述的基板支撑组件，其中每个浮动套管浮动于第二气 流上。