[发明专利]微光刻曝光装置中照明掩模的照明系统

权利要求书

1.一种微光刻曝光装置中照明掩模(16)的照明系统，包括：

a)光轴(60；460)，

b)光瞳表面(70；470)，

c)反射或透明光束偏转元件(M_ij)的光束偏转阵列(46；446)，其中

-每一个偏转元件(M_ij)适配，以将打入光线偏转一偏转角，所述偏转 角是响应于控制信号而可变的，并且其中

-偏转元件(M_ij)至少大体上布置在第一平面(40；440)中，

d)光学光栅元件(34；434)，其

-包括多个微透镜和/或衍射结构，并且

-被布置在第二平面(34；434)中，

其中，光束偏转阵列(46；446)以及光学光栅元件(34；434)共同产 生两维远场强度分布(C)，其特征在于

使得第一平面(40；440)与第二平面(34；434)光学共轭的光学成像 系统(40，41；440，441)。

2.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，两维远场强度分布(C) 是光束偏转阵列(46；446)所产生的远场强度分布(D’_ij)和光学光栅元件 (34；434)所产生的远场强度分布(D_ij)的卷积。

3.如权利要求1或2所述的照明系统，其特征在于，光学光栅元件(34； 434)包括多个域(Z_ij)，其中每一个域通过光学成像系统(40，41；440， 441)产生的光学共轭与光束偏转阵列(46；446)中的至少一个光束偏转元 件(M_ij)相关联，并且其中至少两个域(Z_ij)产生不同的远场强度分布(D_ij)。

4.如权利要求2所述的照明系统，其特征在于，每一光束偏转元件(M_ij) 配置为处于“开启”状态或“关断”状态，其中确定“开启”状态以便经偏 转的光束通过光瞳表面(470)，并且其中确定“关断”状态以便经偏转的光 束不通过光瞳表面(470)。

5.如权利要求3所述的照明系统，其特征在于，确定由多个域(Z_ij) 产生的远场强度分布以便如果全部光束偏转元件(M_ij)处于“开启”状态则 至少照明光瞳表面(470)的可用区域的70％。

6.如权利要求3所述的照明系统，其特征在于，至少两个域(Z_ij)中 的每一个产生至少大体上成具有n个角的多边形形状的远场强度分布(D_ij)， n≠4。

7.如权利要求6所述的照明系统，其特征在于，所述多边形具有不同 的角取向。

8.如权利要求3所述的照明系统，其特征在于，由多个第一域(Z₁₁至 Z₃₆)产生的远场强度分布(图13中D₁₁至D₃₆)是第一正六边形，以及由多 个第二域(Z₄₁至Z₆₆)产生的远场强度分布(D₄₁至D₆₆)是通过旋转第一正 六边形30°所获得的第二正六边形。

9.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，第一平面(40；440) 是光学成像系统(40，41；440，441)的物平面，以及第二平面(34；434) 是所述光学成像系统的像平面。

10.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于第二平面(34；434) 是所述光学成像系统的物平面，以及第一平面(40；440)是所述光学成像 系统(40，41；440，441)的像平面。

11.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，至少大体上平的折叠 镜(41；442)布置在所述光学成像系统(40，41；440，441)中。