[发明专利]分析方法

说明书

与相关申请的交叉引用

本申请要求2007年5月3日提交的美国申请No.60/915,884，以及 2008年3月14日提交的美国申请No.61/036,537的优先权，上述每个申请 在此以其全文引为参考。

本申请涉及2006年9月22日提交的美国临时申请60/826,678、2005 年5月6日提交的国际专利申请PCT/EP2005/004923的美国连续案，它指 定为美国，并要求2004年5月6日提交的德国专利申请DE 102004022 263、2006年11月6日提交的序列号为no.11/593,021的美国连续案、2006 年11月6日提交的国际专利申请PCT/EP2006/068153和EP06/068155的 优先权，后者指定为美国，并要求2005年11月4日提交的德国专利申请 DE 102005052752、2006年11月6日提交的国际申请、以及2006年11 月22日提交的美国临时申请60/867,019的优先权。每个上述申请在此引 为参考。

发明领域

本发明涉及分析方法(例如分析样品中的一种或多种被分析物)。

发明背景

可以进行分析以确定样品中一种或多种被分析物的存在。阵列可 用于对样品进行多重分析(例如对于多种不同被分析物中的每种进行 分析)。典型的阵列包括具有多个空间分隔开的测试区的基质，每个 测试区具有不同的探针化合物，例如多核苷酸、抗体或蛋白。在使用 中，将阵列与样品接触，然后样品与阵列的位点相互作用。对于每个 位点来说，相互作用可以包括例如相应的被分析物与位点的探针化合 物的结合，和/或相应的被分析物与探针化合物之间的化学反应。反应 产生可检测的产物(例如沉淀)。相互作用的存在和程度取决于样品 中是否存在相应的被分析物。

典型情况下，相互作用通过光学方法检测(例如通过荧光)。例 如，可以使用成像检测器(例如CCD)进行光学检测，成像检测器在 至少一个(例如两个)维度上具有多个彼此分隔开的光敏元件(例如 像素)。每个光敏元件被定位，以接收来自基质的不同空间位置的光。 因此，由多个光敏元件同时检测到的光可以组合起来，形成基质的至 少一个(例如两个)维度上的图像数据。可以对图像数据进行评估， 以确定阵列的多个位点上相互作用的存在和/或程度。

发明简述

本发明涉及分析方法(例如分析样品中的多种被分析物)。

在一种情况下，方法包括：

将空间分隔的测试区的阵列与液体样品相接触，测试区布置在微 流体装置的第一基质的内表面与第二基质的内表面之间，至少一个基 质是挠性的，每个测试区含有探针化合物，探针化合物被构造用于参 与靶被分析物的分析。

在对应于测试区的位置减小第一和第二基质的内表面之间的距 离，以及

在相应位置处内表面之间的距离被减小的多个测试区中的每个测 试区上，连续地光学测定相互作用的存在，每个测试区上的相互作用 指示了样品中靶被分析物的存在。

方法可以进一步包括，对于多个测试区中的每个，根据光学测定 的相互作用确定相应被分析物的存在。

对于至少某些测试区中的每个来说，多个测试区的每个上的相互 作用，可以是被分析物与测试区的探针化合物之间的结合反应。

光学测定可以包括使用零阶检测器检测来自每个测试区的光。

使用零阶检测器检测来自每个测试区的光，可以基本上由使用零 阶检测器检测光构成。

对于第一和第二基质的内表面之间的距离被减小的多个位置中的 每个位置来说，方法可以进一步包括在测试区进行光学测定的步骤之 后，随后增加内表面之间的距离。

减小距离可以包括在对应于测试区的位置连续地减小第一和第二 基质的内表面之间的距离。在该实施方案中，对于第一和第二基质的 内表面之间的距离被减小的多个位置中的每个位置来说，方法可以进 一步包括在测试区光学测定结合的步骤之后，随后增加内表面之间的 距离。