[发明专利]漫射光的光栅有效
申请号: | 200880014647.2 | 申请日: | 2008-04-16 |
公开(公告)号: | CN101675365A | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | L·梅尼茨;J·-P·穆莱特;P·拉兰恩 | 申请(专利权)人: | 法国圣戈班玻璃厂 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;E04D13/03 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 段家荣;林 森 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 漫射 光栅 | ||
1.直视透明并且在漫射光的同时使光偏转的基底,在其表面上包含 由至少200个构件成列构成的光栅,所述构件被折光指数不同于构件折 光指数的区域隔开,相邻构件的重心之间的距离d从光栅一边缘到另一 边缘以非单调方式变化,从而对于任何由50个连续构件构成的组而言, 所述组的相邻构件的重心之间的距离d比所述组的相邻构件的重心之间 的距离d的平均距离dm大至少一次和小至少一次,dm为75纳米至500 纳米。
2.如权利要求1所述的基底,其特征在于,对于任何由50个连续 构件构成的组而言,d以高于dm+y的方式偏离所述组内的距离d的平 均距离dm至少一次,并以低于dm-y的方式偏离dm至少一次,y为至 少5%dm。
3.如权利要求2所述的基底,其特征在于,y为至少10%dm。
4.如权利要求1-3任一项所述的基底,其特征在于,对于任何由50 个连续构件构成的组而言,d保持在dm+x至dm-x内,x为最多50%dm。
5.如权利要求1所述的基底,其特征在于,对于任何由20个连续 构件构成的组而言,所述组的相邻构件的重心之间的距离d比所述组的 相邻构件的重心之间的距离d的平均距离dm大至少一次和小至少一次, dm为75纳米至200微米。
6.如权利要求5所述的基底,其特征在于,对于任何由20个连续 构件构成的组而言,d以高于dm+y的方式偏离所述组内的距离d的平 均距离dm至少一次,并以低于dm-y的方式偏离dm至少一次,y为至 少5%dm。
7.如权利要求6所述的基底,其特征在于,y为至少10%dm。
8.如权利要求5-7任一项所述的基底,其特征在于,对于任何由20 个连续构件构成的组而言,d保持在dm+x至dm-x内,x为最多50%dm。
9.如权利要求1-3和5-7任一项所述的基底,其特征在于,如果DM 代表整个光栅的相邻构件的重心之间的距离d的平均值,构件的平均宽 度Lm为0.1DM至0.9DM。
10.如权利要求9所述的基底,其特征在于,该光栅的所有构件具 有0.5Lm至1.5Lm的宽度。
11.如权利要求1-3和5-7任一项所述的基底,其特征在于,该光 栅的至少80%的构件形成区块,各区块包含3至15个在构件之间具有 恒定间隔的并列的相同构件。
12.如权利要求11所述的基底,其特征在于,该光栅的至少90% 的构件形成区块,各区块包含3至15个在构件之间具有恒定间隔的并 列的相同构件。
13.如权利要求11所述的基底,其特征在于,各区块包含3至7个 在构件之间具有恒定间隔的并列的相同构件。
14.如权利要求1-3和5-7任一项所述的基底,其特征在于,构件 的宽度L与深度的比率为0.2至5。
15.如权利要求14所述的基底,其特征在于,构件的宽度L与深度 的比率为0.4至2。
16.如权利要求1-3和5-7任一项所述的基底,其特征在于,在1 至2.2的范围内选择构件和区域的折光指数。
17.如权利要求1-3和5-7任一项所述的基底,其特征在于,dm小 于或等于450纳米。
18.如权利要求1-3和5-7任一项所述的基底,其特征在于,dm大 于或等于200纳米。
19.如权利要求17所述的基底,其特征在于,dm大于或等于200 纳米。
20.如权利要求18所述的基底,其特征在于,dm大于或等于300 纳米。
21.如权利要求1-3和5-7任一项所述的基底,其特征在于,入射 角大于30°的可见光中,透射光的10%至50%被偏转和被漫射,未偏转 光不被漫射。
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