[发明专利]用真空延伸室储放遮盘的传输室

权利要求书

1.一种用于设备组的主框架，包含：

传输室，所述传输室内设有基板传输机械手，其中所述传输室包括多个 侧壁，所述多个侧壁中形成有开口，并且经配置以与一个或多个处理室连接， 所述基板传输机械手经配置以将基板来回移动于直接或间接连接至所述传输 室的一或多个处理室之间；

延伸室，在所述延伸室和所述传输室之间形成开口，调压端口配置以转 接至真空泵以提供所述传输室低压环境；以及

遮盘架，所述遮盘架设置于所述延伸室中，且经配置以储放待用于所述 一或多个处理室中的一或多个遮盘，其中所述基板传输机械手可进入所述遮盘 架，从而，所述基板传输机械手得以传输所述一或多个遮盘于所述遮盘架以及 直接或间接连接至所述传输室的所述一或多个处理室之间。

2.如权利要求1所述的主框架，还包含连接至所述延伸室的负载锁定室 或通过室的其中之一，其中所述负载锁定室或所述通过室经配置以连接所述传 输室和前端环境，所述传输室连接至所述延伸室的第一侧壁，所述负载锁定室 或通过室连接至与所述第一侧壁相对的所述延伸室的第二侧壁，且所述延伸室 的内容积在所述负载锁定室或所述通过室以及所述传输室之间提供机械手通 道给所述基板传输机械手。

3.如权利要求2所述的主框架，其中所述遮盘架为可移动地设置在所述 延伸室的所述内容积中，且所述遮盘架可移动至所述机械手通道并从所述机械 手通道离开。

4.如权利要求3所述的主框架，还包含耦接至所述遮盘架的指示器，其 中所述指示器经配置以在所述延伸室的所述内容积内垂直移动所述遮盘架。

5.如权利要求1所述的主框架，其中所述调压端口形成于所述延伸室的 底壁上。

6.如权利要求1所述的主框架，其中所述遮盘架包含：

第一支柱；

第二支柱，所述第二支柱与所述第一支柱为相对设置；以及

一或多对支撑指状物件，所述一或多对支撑指状物件从各个所述第一支 柱和所述第二支柱延伸，其中所述一或多对支撑指状物件构成一或多个狭缝， 且每一狭缝经配置以在狭缝上支撑遮盘，所述支撑指状物件的每个包含两个接 触球体，所述接触球体经配置以接触遮盘的后侧。

7.一种用于设备组的传输室组件，包含：

主腔室，所述主腔室中限定第一内容积，其中所述主腔室包括多个侧壁， 所述多个侧壁中形成开口，且经配置以连接至多个腔室；

中央机械手，所述中央机械手设置在所述第一内容积中，其中所述中央机 械手经配置以将一或多个基板来回移动于连接至所述主腔室的所述腔室之间；

延伸室，所述延伸室包括限定第二内容积的主体，所述第二内容积连接 至所述主腔室的第一内容积，其中所述主体包括：

第一侧壁，所述第一侧壁耦接到所述主腔室，其中所述第一侧壁 具有第一腔室开口；

第二侧壁，所述第二侧壁与所述第一侧壁相对，其中所述第二侧 壁具有第二腔室开口；

底壁，所述底壁具有调压端口，所述调压端口配置以转接至真空 系统；以及

遮盘架，所述遮盘架设置于所述延伸室中，其中所述遮盘架经配 置以在遮盘架中支撑一或多个遮盘，且所述中央机械手可进入所述遮盘 架。

8.如权利要求7所述的传输室组件，其中所述主腔室的第一内容积和所 述延伸室的第二内容积构成单一真空密封区，所述延伸室的尺寸要比所述主腔 室的尺寸小得多。

9.如权利要求7所述的传输室组件，其中所述遮盘架设置于所述延伸室 的第二内容积的第一部分中，且所述延伸室的所述第二内容积的第二部分经配 置以提供所述中央机械手进入连接至所述延伸室的第二侧壁的负载锁定室或 通过室的通道。

10.如权利要求9所述的传输室组件，还包含连接至所述遮盘架的指示器， 其中所述指示器经配置以在所述延伸室内垂直移动所述遮盘架，使得所述中央 机械手可进入所述遮盘架。