[发明专利]用于故障检验和过程监测的辐射光学监测系统的校准

权利要求书

1.一种用于故障检验和过程监测的辐射光学监测系统校准方法，包括步 骤：

将第一摄谱仪校准到本地基本标准；

在第一摄谱仪处从第一光源接收光，其中所述第一光源发射多个未知的光 谱强度；

在第二摄谱仪处从所述第一光源接收光；

响应于在所述第一摄谱仪处从所述第一光源接收光，产生经校准的光谱信 息；

响应于在所述第二摄谱仪处从所述第一光源接收光，产生未校准的光谱信 息；以及

将所述第二摄谱仪校准到由所述第一摄谱仪产生的经校准的光谱信息。

2.权利要求1所述的校准方法，其中所述本地基本标准是经校准的光电探 测器，其具有来源于已知标准的响应，并且将第一摄谱仪校准到本地基本标准 的步骤进一步包括：

在所述第一摄谱仪处从第二光源接收光；

在所述经校准的光电探测器处从所述第二光源接收光；

响应于在所述经校准的光电探测器处从所述第二光源接收光，产生经校准 的光谱信息；

响应于在所述第一摄谱仪处从所述第二光源接收光，产生未校准的光谱信 息；以及

将所述第一摄谱仪校准到由所述经校准的光电探测器产生的经校准的光谱 信息。

3.权利要求2所述的校准方法，其中所述已知标准是国家标准和技术协会 标准。

4.权利要求1所述的校准方法，其中所述本地基本标准是第二光源。

5.权利要求4所述的校准方法，其中所述第二光源发射多个已知的光谱强 度。

6.权利要求5所述的校准方法，其中由所述第二光源发射的所述已知光谱 强度来源于国家标准和技术协会标准。

7.权利要求4所述的校准方法，其中所述第一和第二摄谱仪同时从所述第 一光源接收光。

8.权利要求1所述的校准方法，其中将所述第二摄谱仪校准到由所述第一 摄谱仪产生的经校准的光谱信息的步骤进一步包括：

将由所述第二摄谱仪产生的所述未校准的光谱信息与由所述第一摄谱仪产 生的所述经校准的光谱信息进行比较；以及

基于对由所述第二摄谱仪产生的所述未校准的光谱信息与由所述第一摄谱 仪产生的所述经校准的光谱信息的所述比较，产生校正系数。

9.权利要求1所述的校准方法，进一步包括：

在第三摄谱仪处从所述第一光源接收光；

响应于在所述第三摄谱仪处从所述第一光源接收光，产生未校准的光谱信 息；以及

将所述第三摄谱仪校准到由所述第一摄谱仪产生的所述经校准的光谱信 息。

10.权利要求1所述的校准方法，进一步包括：

将所述第二摄谱仪光学耦合到光学耦合系统，所述光学耦合系统具有通过 量等级；

通过所述光学耦合系统从所述第一光源接收光；以及

响应于所述光学耦合系统的通过量等级，改变所述第二摄谱仪的校准。

11.权利要求10所述的校准方法，其中所述光学耦合系统进一步包括光纤， 该方法进一步包括：

记录所述光纤的空间构造。

12.权利要求11所述的校准方法，进一步包括：

将所述第二摄谱仪的校准微调到第三光源。

13.权利要求12所述的校准方法，其中将所述第二摄谱仪的校准微调到第 三光源的步骤包括：

将所述光学耦合系统光学耦合到布置在加工腔室上的用于观察所述加工腔 室内部的视窗；

在所述第二摄谱仪处从所述第三光源接收光；

将所述第二摄谱仪的校准调整到与所述第三光源相关联的光谱信息。

14.权利要求13所述的校准方法，其中所述第三光源发射单一光谱波长的 光。

15.权利要求13所述的校准方法，其中所述第三光源发射多个光谱波长的 光。