[发明专利]气化炉

权利要求书

1.至少部分地氧化包含固态、液态和气态物料的全物流的设备，所述 设备包括进料口、出料口和在两口之间延伸的氧化区，且所述设备具有至 少一个用于引入气态媒介的单元(7，8)，所述气态媒介具体为气化剂或氧化 剂和/或输送载体，以下述这种方式设置和/或设计所述单元：使得所述全物 流从进料口经氧化区(2)向出料口气动输送。

2.根据权利要求1的设备，其中，连续输送所述全物流。

3.根据权利要求1或2的设备，其中，输送全物流与至少部分地氧化 物料同时进行。

4.根据权利要求1、2或3的设备，其中，通过气化剂或氧化剂实现全 物流的输送和/或至少部分地氧化物料。

5.根据前述权利要求中任一项的设备，其中，特别地为了实现气化剂 或氧化剂与全物流的充分混合和/或全物流的输送，将至少一个用于向氧化 区引入气化剂或氧化剂的第一喷嘴单元设置在进料口的附近和/或出料口的 附近。

6.根据前述权利要求中任一项的设备，其中，将进料口附近的氧化区 (2)设计成文丘里喷嘴，从而根据文丘里理论输送全物流。

7.根据前述权利要求中任一项的设备，所述设备包括氧化区中影响流 体的固定装置(11)，构建该固定装置(11)用来促进气化剂或氧化剂与全物流 的充分混合。

8.根据前述权利要求中任一项的设备，其中，全物流的输送以基本上 独立于氧化的形式进行，并且优选基本上只通过对体积流量和流体截面的 适当调节和通过引入额外的物料流来进行，所述额外的物料流优选为气化 剂的物料流。

9.根据前述权利要求中任一项的设备，其中，在至少两个不同的位置 (2-2，2-12)上引入气化剂，所述位置优选为沿着输送通道和/或沿着氧化单 元(2)的周围和/或沿着氧化单元(2)下游的还原单元(3)底部的围周，并且优选 以喷射方式引入气化剂。

10.根据前述权利要求中任一项的设备，其中，为了影响包含固态、气 态或液态组分的流体，将喷嘴、优选为涡流式喷嘴安装在氧化单元(2)的末 端和/或氧化单元(2)下游的还原单元(3)的底部，所述喷嘴特别用于引入或喷 射气化剂。

11.根据前述权利要求中任一项的设备，其中，通过加热装置在沿氧化 区的任意位置上从外部供应启动氧化过程所需的点火温度和/或点火能量， 所述加热装置具体为点火设备或燃烧热备。

12.根据前述权利要求中任一项的设备，其中，将分解的物料，优选以 包含固态、液态和气态组成的全物流以热方式引入氧化单元、优选以在进 料口进行热解的方式引入，其中的形式引入物料。

13.根据前述权利要求中任一项的设备，其中，氧化单元的出料口与还 原单元(3)连接，这样将至少部分氧化的全物流转移至还原单元(3)中，特别 是以直接的或未分离的方式进行转移，从而分别产生了产物气体及合成气 或贫气。

14.根据权利要求13的设备，其中，所述产物气体或者合成气或贫气 从还原单元或从下游的装置组件至少部分地回流到氧化单元上游的设备组 件中。

15.根据前述权利要求中任一项的设备，其中，将所述设备的、特别 是氧化区从进料口至出料口的流体截面设计为恒定的，和/或为至少部分地 增大和/或减小，特别地构造为文丘里管。

16.根据前述权利要求中任一项的设备，其中，所述设备包括配置在氧 化单元进料口上游的物料供应段，所述物料供应段优选为基本呈管状，其 流体截面大于氧化单元的流体截面，特别是在氧化单元进料口的区域中的 截面。

17.根据前述权利要求中任一项的设备，其中，所述设备具有位于氧化 单元上游的热解设备，并且以下述方式构造所述设备：使供应至氧化单元 进料口的全物流来自于热解设备。