[发明专利]用于感光聚合物印版显影和涂胶的胶溶液

权利要求书

1.一种适用于平版印版前驱体显影和涂胶的胶溶液，所述胶溶液 包含成膜亲水聚合物或表面活性剂，其特征在于所述胶溶液进一步包 含由选自磷酸和亚磷酸的酸与二链烷醇胺或三链烷醇胺反应生成的 盐。

2.权利要求1的胶溶液，其中酸为磷酸。

3.权利要求1或2的胶溶液，其中二链烷醇胺或三链烷醇胺为用 二或三个链烷醇基取代的单价胺。

4.权利要求3的胶溶液，其中链烷醇基包含最多12个碳原子。

5.权利要求1或2的胶溶液，其中盐以至少0.02mol/l的浓度存 在于胶溶液中。

6.权利要求1或2的胶溶液，其中胺的碱官能当量与酸的酸官能 当量的比率优选为至少0.03。

7.权利要求1的胶溶液，所述胶溶液进一步包含至少一种选自聚 氧乙烯/聚氧丙烯的嵌段共聚物、聚氧乙烯烷基芳基醚和聚氧乙烯多苯 乙烯基苯基醚的淤渣稳定剂。

8.权利要求7的胶溶液，其中淤渣稳定剂为聚氧乙烯三苯乙烯基 苯基醚。

9.一种制备平版印版的方法，所述方法包括以下步骤：

a)提供平版印版前驱体，所述前驱体包括：

-具有亲水表面或提供有亲水层的载体；和

-在其上提供的涂层，所述涂层包含可感光聚合组合物，

b)使所述前驱体以成像方式曝光，

c)任选加热前驱体，

d)通过用权利要求1至8中任一项的胶溶液脱离印刷机处理前驱 体的涂层，在实质单一步骤使前驱体显影和涂胶，

术语“在实质单一步骤”是指在此显影和涂胶步骤中，在非曝光区 域的涂层从载体实际完全除去，但不排除微量或少量涂层保留在非曝 光区域，并且保留的此涂层进一步在印版启动期间用润版液和油墨在 印刷机上除去。

10.权利要求9的方法，其中在步骤d)用胶溶液脱离印刷机处理 涂层使非曝光区域的涂层部分清除，并且其中在非曝光区域的涂层能 够在印刷机上完全除去。

11.权利要求9或10的方法，其中前驱体在步骤(b)用具有350 至450nm波长的光以成像方式曝光。

12.权利要求9或10的方法，其中可感光聚合组合物包含：

-具有含酸基的单体单元的聚合物和能够中和所述酸基的碱性含 氮化合物，或

-具有含由碱性含氮化合物中和的酸基的单体单元的聚合物。