[发明专利]工艺窗发觉检测以及掩模层处光刻印刷问题的校正

权利要求书

1.一种用于对与印刷图案物理布局中临界特征(100、200、700、1300)的印刷失败(108、1308)有关的临界失败模型进行标定的方法(800)，包括以下步骤：

-提供(804)所述临界特征的印刷失败标准，所述印刷失败标准与所述临界特征印刷中的几何参数有关，所述几何参数从对所述印刷进行模拟的测试-印刷-模拟数据得到；

-提供(806)代表不同测试图案(700)的印刷模拟的测试-印刷-模拟数据(301至307)，其中，所述测试图案具有临界特征，不同测试图案彼此之间在其各自的所述临界特征(700)的几何参数值(CD_x，CD_y，d)方面不同；

-根据所述临界特征印刷位置处的所述测试-印刷-模拟数据来确定(808)预定光学参数组(Imax，Imin)；

-扫描(810)所述测试-印刷-模拟数据以根据所述印刷失败标准确定是否存在印刷失败；以及

-使用在由所述光学参数组中的至少一个光学参数确定范围的光学参数空间各点处进行的测试印刷模拟中检测到的印刷失败，根据至少两个印刷临界性等级对所述光学参数空间中各区进行分类(816)，

其中，

-根据工艺窗(PW)的仅一个采样点(z)处的所述测试-印刷-模拟数据确定所述预定光学参数组，其中，所述采样点对于所有测试图案都相同；

-在对所述光学参数空间进行分类之前提供(812)至少一个失败规则，所述失败规则提供了所述光学参数空间中各点的趋势信息，所述趋势信息表示当从所述工艺窗的所述采样点(z)移动至不同工艺窗点(u、v、w、x、y)时测试图案的临界特征的印刷中所述几何参数的趋势；以及其中

-对所述光学参数空间中的各区进行分类(816)的步骤包括：根据采样点(z)处的所述测试-印刷-模拟数据以及根据所述失败规则来确定各印刷临界性等级。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，在扫描所述测试-印刷-模拟数据以确定是否存在印刷失败以后，对所述光学参数空间进行分类的步骤包括：

-根据所述印刷失败标准确定(814)临界性指示符值，所述临界性指示符值表示所述临界特征印刷的临界性程度，其中，所述临界性指示符值取决于在所述工艺窗的采样点处是否检测到印刷失败，以及取决于在移动至至少一个不同工艺窗点时利用所述失败规则预测的所述测试图案的几何参数的趋势。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，对所述光学参数空间进行分类的步骤包括根据不同临界性指示符值区分(816)所述光学参数空间中的各区。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，由所述失败规则提供的所述趋势信息表示在从所述工艺窗的所述采样点移动至不同工艺窗点时，所述测试图案的临界特征印刷过程中所述几何参数的变化量和变化方向。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，对所述光学参数空间进行分类的步骤包括：对于所述光学参数空间中的给定点，根据所述采样点处的所述测试-印刷-模拟数据以及根据所述失败规则确定所述工艺窗中的一个点，即，其相应的临界性指示符值超过预定阈值的所述工艺窗中的一个点。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，对所述光学参数空间进行分类的步骤包括：

-对于所述光学参数空间中的相应点，确定所述工艺窗的所述采样点与相应的临界性指示符值超过预定阈值的一个最近的工艺窗点之间的距离。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光学参数组包括来自由以下光学参数组成的参数组的至少一个光学参数：

a)所述特征的印刷位置处的所述测试图案的虚图像的最大强度，

b)所述特征的印刷位置处的所述测试图案的虚图像的最小强度，

c)在所述测试图案的虚图像中最小强度位置和最大强度位置之间的预定阈值位置处，所述特征的印刷位置处的所述测试图案的虚图像强度轮廓的斜率，以及

d)通过将a)至c)中所述的光学参数中的至少两个进行代数组合形成的合成光学参数。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述工艺窗(PW)由可用于对所述临界特征印刷位置处的光刻胶层进行曝光的曝光-射线-剂量区间、以及被相对于所述临界特征印刷位置处的光刻胶层的掩模图像平面的可用聚焦位置区间确定范围。