[发明专利]研磨的硅烷化气相法二氧化硅

权利要求书

1.疏水性气相法二氧化硅，其是通过使用销棒粉碎机或空气喷射研磨 机研磨由于硅烷化而在表面上固定有辛基甲硅烷基的、具有以下物理化学 特征数据的气相法二氧化硅得到的：

其中所得二氧化硅的刮板细度仪值比未研磨的二氧化硅低，为低于 10μm，

所得二氧化硅根据Cilas的平均粒径为5.0～20.0μm，

所得二氧化硅的夯实密度为15～65g/l，

所得二氧化硅的BET比表面积为130～170m²/g，

所得二氧化硅的pH为5.0～6.0，

所得二氧化硅在涂料制剂中导致光雾度值为15或更低，所述光雾度值 是在20°入射角下使用反射计测量的。

2.制备如权利要求1所述的硅烷化气相法二氧化硅的方法，其特征在 于，使用销棒粉碎机或空气喷射研磨机研磨由于硅烷化而在表面上固定有 辛基甲硅烷基的、具有以下物理化学特征数据的气相法二氧化硅的步骤：

3.如权利要求1所述的硅烷化气相法二氧化硅在涂料制剂中作为增稠 剂或触变剂的用途。

4.涂料制剂，其特征在于，其含有如权利要求1所述的二氧化硅，并 且具有15或更低的光雾度值，所述光雾度值是在20°入射角下使用反射计 测量的。

5.如权利要求4所述的涂料制剂，其特征在于，其黑度值M_y为至少 280。

6.如权利要求4或5所述的涂料制剂，其特征在于，其含有0.5～15重 量％的所述二氧化硅。

7.如权利要求4或5所述的涂料制剂，其特征在于，其含有5.0～99.5 重量％的聚合物成分固体或两种以上的物理或化学交联聚合物成分的混合 物固体、和/或0～99.5重量％的用作溶剂的低分子量成分或该低分子量成分 的混合物。

8.如权利要求4或5所述的涂料制剂，其特征在于，其含有至少一种 选自如下组中的粘结剂：任选带有其它官能团的(甲基)丙烯酸及其酯与其它 烯键式不饱和化合物的聚合物和共聚物、聚醚多元醇、聚酯多元醇、聚碳 酸酯多元醇、聚氨酯多元醇和环氧树脂、以及通过缩聚制备的脂肪酸改性 的醇酸树脂。

9.如权利要求5所述的涂料制剂，其特征在于，其黑度值M_y为至少 285。