[发明专利]含有二氧化铈、二氧化硅和氨基酸的分散体

权利要求书

1.一种分散体，其包含二氧化铈和胶体二氧化硅的颗粒和一种或多种氨基羧酸和/或其盐，其中

-所述二氧化硅颗粒的ζ电位为负，所述二氧化铈颗粒的ζ电位为正或等于零，并且所述分散体的ζ电位总体为负，

-所述二氧化铈颗粒的平均粒径不超过200nm，所述二氧化硅颗粒的平均粒径低于100nm，

-在各情况下，基于所述分散体的总量，

所述二氧化铈颗粒的含量为0.1到5重量％，所述二氧化硅颗粒的含量为0.01到10重量％，并且

所述氨基羧酸及其盐的含量为0.01到5重量％，并且

-所述分散体的pH值为7.5到10.5。

2.权利要求1中所述的分散体，其中所述分散体的ζ电位为-20到-100mV。

3.权利要求1或2中所述的分散体，其中pH值为9到10。

4.权利要求1至3中所述的分散体，其中所述二氧化铈基于所述分散体的含量为0.1到5重量％。

5.权利要求1至4中所述的分散体，其中所述胶体二氧化硅基于所述分散体的含量为0.01到10重量％。

6.权利要求1至5中所述的分散体，其中所述二氧化铈/二氧化硅的重量比为1.1∶1到100∶1。

7.权利要求1至6中所述的分散体，其中所述分散体中只有二氧化铈颗粒和二氧化硅颗粒。

8.权利要求1至7中所述的分散体，其中所述二氧化铈颗粒的平均粒径为40到90nm。

9.权利要求1至8中所述的分散体，其中所述二氧化铈颗粒是以初级颗粒聚集体的形式存在。

10.权利要求1至9中所述的分散体，其中所述二氧化铈颗粒在其表面上和接近所述表面的层中含有碳酸根。

11.权利要求1至10中所述的分散体，其中所述胶体二氧化硅颗粒的平均粒径为3到50nm。

12.权利要求1至11中所述的分散体，其中所述氨基酸选自丙氨酸、4-氨基丁烷羧酸、6-氨基己烷羧酸、12-氨基月桂酸、精氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、甘氨酸、N-甘氨酰甘氨酸、赖氨酸和脯氨酸。

13.权利要求1至12中所述的分散体，其中存在于所述分散体中的所述氨基酸或其盐的含量为0.1到0.6重量％。

14.权利要求1至13中所述的分散体，其中水是所述分散体液相的主要成分。

15.权利要求1至14中所述的分散体，其包含酸、碱、盐、氧化剂、氧化催化剂和/或腐蚀抑制剂。

16.一种如权利要求1至15中所述的分散体的制备方法，其包括

-将粉末形式的二氧化铈颗粒引入含有胶体二氧化硅颗粒的预分散体中并随后将其分散，或

-将含有二氧化铈颗粒的预分散体和含有胶体二氧化硅颗粒的预分散体进行混合，然后进行分散，接着

-加入一种或多种固体、液体或溶解形式的氨基酸，然后

-任选加入氧化剂、氧化催化剂和/或腐蚀抑制剂。

17.权利要求16中所述的方法，其中所述胶体二氧化硅颗粒的ζ电位在pH值从7.5到10.5时为-20到-100mV。

18.权利要求16或17中所述的方法，其中所述二氧化铈颗粒的ζ电位在pH值从7.5到10.5时为0到40mV。

19.权利要求1至15中所述的分散体用于抛光电介质表面的用途。