[发明专利]涂覆头的清洁方法、浆料涂覆方法以及等离子体显示器的制造方法

权利要求书

1.一种涂覆头清洁方法，是清洁附着于涂覆头的排出口附近的 排出口面的涂覆液的涂覆头清洁方法，其特征在于，

进行1次以上压触动作，所述压触动作是使胶带在大致垂直方 向接近所述排出口附近的排出口面并在抵接后在大致垂直方向剥 离，之后进行以使涂覆液渍的大小为距离排出口外缘10μm以上 1000μm以下的方式从所述排出口微量排出涂覆液的微量排出动 作，进一步施行1次以上压触动作，所述压触动作使胶带在大致垂 直方向接近所述排出口附近的排出口面并在抵接后在大致垂直方向 剥离。

2.根据权利要求1所述的涂覆头清洁方法，在各压触动作中， 隔着所述胶带面对涂覆头排出口面地压触由弹性体构成的压触部 件。

3.根据权利要求1或2所述的涂覆头清洁方法，其中，所述涂 覆液是荧光体浆料。

4.根据权利要求1或2所述的涂覆头清洁方法，其中，所述涂 覆头是用于制造等离子体显示器的荧光体涂覆喷嘴。

5.根据权利要求3所述的涂覆头清洁方法，其中，所述涂覆头 是用于制造等离子体显示器的荧光体涂覆喷嘴。

6.一种浆料涂覆方法，其特征在于，使用权利要求1至5中的 任一项所述的涂覆头清洁方法清洁涂覆头后，从涂覆头排出涂覆液 进行涂覆。

7.一种等离子体显示器的制造方法，其特征在于，使用权利要 求6所述的浆料涂覆方法形成荧光体层。