[发明专利]除草活性的二环1,3-二酮化合物有效
申请号: | 200880017715.0 | 申请日: | 2008-05-27 |
公开(公告)号: | CN101679177A | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
发明(设计)人: | C·J·马修斯;M·B·霍斯顿;A·J·道林;J·N·斯卡特;M·戈芬卡;L·查利诺 | 申请(专利权)人: | 辛根塔有限公司 |
主分类号: | C07C49/747 | 分类号: | C07C49/747;A01N35/06 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 张 敏 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 除草 活性 化合物 | ||
1.式I化合物
其中
R1是甲基、乙基、正丙基、卤代甲基、卤素、乙炔基、甲氧基、乙 氧基或卤代甲氧基;
R2和R3独立地是氢,苯基或被C1-C2烷基、C1-C2烷氧基、C1-C2卤代 烷基、C1-C2卤代烷氧基、氟、氯、溴或氰基取代的苯基;或杂芳基或被 C1-C2烷基、C1-C2烷氧基、C1-C2卤代烷基、C1-C2卤代烷氧基、氟、氯、 溴或氰基取代的杂芳基;其中所述“杂芳基”是噻吩基、吡啶基、嘧啶 基、吡唑基或噻唑基;以及其中R2和R3中至少一个是任选经取代的苯 基或任选经取代的杂芳基;
R4是氢、甲基、乙基、正丙基、卤代甲基、卤素、乙炔基、甲氧基、 乙氧基或卤代甲氧基;
R5是氢、C1烷基或C1烷氧基;
R6是氢或甲基;
X是亚甲基、亚乙基、被C1烷基取代的亚甲基或被C1烷基取代的亚 乙基;
Y是C1-C2亚烷基或被C1-C3烷基取代的C1-C2亚烷基;或者是C2亚烯 基;以及
G是氢、碱金属、碱土金属、锍、铵或潜伏基团;
以及其中,当G是潜伏基团时,那么G是C(Xa)-Ra或C(Xb)-Xc-Rb;
其中Xa、Xb和Xc是氧;并且其中
Ra是C1-C18烷基,C2-C18烯基,C2-C18炔基,C1-C10卤代烷基,C1-C10氰基烷基,C3-C7环烷基C1-C5烷基,C1-C5烷氧基C1-C5烷基,C3-C5烯氧 基C1-C5烷基,C3-C5炔氧基C1-C5烷基,C1-C5烷硫基C1-C5烷基,C1-C5烷 基羰基C1-C5烷基,C1-C5烷氧基羰基C1-C5烷基,C2-C5卤代烯基或C3-C8环烷基;以及
Rb是C1-C18烷基,C 3-C18烯基,C3-C18炔基,C2-C10卤代烷基,C1-C10氰基烷基,C3-C7环烷基C1-C5烷基,C1-C5烷氧基C1-C5烷基,C3-C5烯氧 基C1-C5烷基,C3-C5炔氧基C1-C5烷基,C1-C5烷硫基C1-C5烷基,C1-C5烷 基羰基C1-C5烷基,C1-C5烷氧基羰基C1-C5烷基,C3-C5卤代烯基或C3-C8环烷基。
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