[发明专利]高效率太阳能电池、其制造方法和制造设备有效

专利信息
申请号: 200880017871.7 申请日: 2008-05-29
公开(公告)号: CN101681945A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 金宰湖 申请(专利权)人: 周星工程股份有限公司
主分类号: H01L31/042 分类号: H01L31/042
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 程大军
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 高效率 太阳能电池 制造 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种高效率太阳能电池,其包括:

透明基底;

位于所述透明基底上的第一电极;

位于所述第一电极上的第一杂质掺杂半导体层;

位于所述第一杂质掺杂半导体层上的第二本征半导体层,所述第 二本征半导体层具有逐渐变化的结晶度,所述逐渐变化的结晶度通过 加热位于所述第一杂质掺杂半导体层上的非晶硅的第一本征半导体 层,使所述第一本征半导体层的全部的非晶硅的30%到40%通过快 速热制造过程结晶而形成;

位于所述第二本征半导体层上的第二杂质掺杂半导体层;及

位于所述第二杂质掺杂半导体层上的第二电极。

2.如权利要求1所述的太阳能电池,其中所述第二本征半导体 层包括线性结晶硅,以便所述第二本征半导体层的结晶度沿着从所述 第二本征半导体层的底部表面到顶部表面的方向线性地变化。

3.如权利要求1所述的太阳能电池,其还包括位于所述第二本 征半导体层与所述第二杂质掺杂半导体层之间的金属层。

4.一种制造太阳能电池的设备,其包括:

传送腔室,包括用以传送基底的传送装置;

加载互锁真空腔室,连接到所述传送腔室的第一侧部分,所述加 载互锁真空腔室交错地呈真空状态与大气压力状态,以输入、输出所 述基底;

第一处理腔室,连接到所述传送腔室的第二侧部分,所述第一处 理腔室在所述基底上的第一电极上形成第一杂质掺杂半导体层;

第二处理腔室,连接到所述传送腔室的第三侧部分,所述第二处 理腔室在所述第一杂质掺杂半导体层上形成非晶硅的第一本征半导 体层;

第三处理腔室,连接到所述传送腔室的第四侧部分,所述第三处 理腔室加热所述第一本征半导体层,使所述第一本征半导体层的全部 的非晶硅的30%到40%通过快速热制造过程而结晶,以形成具有逐 渐变化的结晶度的第二本征半导体层;及

第四处理腔室,连接到所述传送腔室的第五侧部分,所述第四处 理腔室在所述第二本征半导体层上形成第二杂质掺杂半导体层。

5.一种制造太阳能电池的设备,其包括:

装载腔室,交错地呈真空状态与大气压力状态,用以输入基底;

第一处理腔室,连接到所述装载腔室的一侧部分,所述第一处理 腔室在所述基底上的第一电极上形成第一杂质掺杂半导体层;

第二处理腔室,连接到所述第一处理腔室的一侧部分,所述第二 处理腔室在所述第一杂质掺杂半导体层上形成非晶硅的第一本征半 导体层;

第三处理腔室,连接到所述第二处理腔室的一侧部分,所述第三 处理腔室加热所述第一本征半导体层,使所述第一本征半导体层的全 部的非晶硅的30%到40%通过快速热制造过程而结晶,以形成具有 逐渐变化的结晶度的第二本征半导体层;

第四处理腔室,连接到所述第三处理腔室的一侧部分,所述第四 处理腔室在所述第二本征半导体层上形成第二杂质掺杂半导体层;及

卸载腔室,连接到所述第四处理腔室的一侧部分,所述卸载腔室 交错地呈真空状态与大气压力状态,用来输出所述基底。

6.一种制造太阳能电池的方法,其包括:

在透明基底上依序形成第一电极与第一杂质掺杂半导体层;

在所述第一杂质掺杂半导体层上形成非晶硅的第一本征半导体 层;

结晶所述第一本征半导体层,使所述第一本征半导体层的全部的 非晶硅的30%到40%通过快速热制造过程而结晶,以形成具有逐渐 变化的结晶度的第二本征半导体层;及

在所述第二本征半导体层上依序形成第二杂质掺杂半导体层与 第二电极。

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