[发明专利]防污加工剂组合物及其制造方法及加工物品

权利要求书

1.防污加工剂组合物，其特征在于，含有含氟共聚物，所述含氟共聚物 包含30～70质量％的基于下述单体(a)的聚合单元(a’)、20～69质量％的基于 下述单体(b)的聚合单元(b’)和1～10质量％的基于下述单体(c)的聚合单元(c’)， 主链末端具有阴离子性基团，

单体(a)：F(CF₂)_sY-OCOCR＝CH₂表示的化合物，

式中，s表示1～6的整数，R表示氢原子、碳数1～3的烷基或卤素原子， Y表示碳数1～10的亚烷基，

单体(b)：CH₂＝CR¹-COO-(R²O)_q-R³表示的化合物，

式中，R¹表示氢原子或甲基，R²表示碳数2～4的亚烷基，R³表示氢原子、 碳数1～8的烷基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基或环氧丙基，q表示1～140的整 数，q为2～140时存在于一分子中的多个-(R²O)-可以相同也可互不相同，

单体(c)：CH₂＝CR⁴-M-Q-NR⁵R⁶或CH₂＝CR⁴-M-Q-N(O)R⁵R⁶表示的化合物，

式中，R⁴表示氢原子或甲基，M表示-COO-或-CONH-，Q表示碳数2～4 的亚烷基或氢原子的一部分或全部被羟基取代的碳数2～3的亚烷基，R⁵及R⁶分别独立地表示苄基、碳数1～8的烷基、氢原子的一部分被羟基取代的碳数 2～3的烷基，R⁵、R⁶及氮原子可形成哌啶子基或吡咯烷基，R⁵、R⁶、氧原子 及氮原子可形成吗啉代基；

所述含氟共聚物为100质量％时所述阴离子性基团的存在量为0.1～3.0 质量％。

2.如权利要求1所述的防污加工剂组合物，其特征在于，所述含氟共聚 物含有1～5质量％的基于下述单体(d)的聚合单元(d’)，

单体(d)是可与所述单体(a)、(b)及(c)共聚的单体，该单体具有选自异氰酸 酯基、封端异氰酸酯基、氨基甲酸酯键、烷氧基甲硅烷基、环氧基、N-羟甲基 及N-烷氧基甲基的1种以上的交联性官能团但不具有多氟烷基；各成分的含 有量的总量为100质量％。

3.如权利要求1所述的防污加工剂组合物，其特征在于，作为所述单体 (b)，采用2种以上的所述R²不同的单体(b)。

4.如权利要求2所述的防污加工剂组合物，其特征在于，所述单体(d)是 具有封端异氰酸酯基的化合物。

5.如权利要求1所述的防污加工剂组合物，其特征在于，所述阴离子性 基团为羧基。

6.如权利要求1所述的防污加工剂组合物，其特征在于，包含所述含氟 共聚物和水性介质，挥发性有机溶剂的含量为1质量％以下。

7.加工物品，其特征在于，用权利要求1～6中任一项所述的防污加工剂 组合物进行了处理。