[发明专利]沉积设备

权利要求书

1.一种沉积设备，所述沉积设备通过用从等离子体发生装置供应到室中的等离子体辐射来将从沉积材料分离的材料粒子沉积在沉积对象物上而形成薄膜，所述沉积设备包括：

适于容纳所述沉积材料的容纳装置；和

捕获装置，所述捕获装置在向着所述沉积对象物运动的材料粒子的运动区域的范围之外安装在所述容纳装置附近，所述运动区域由所述沉积对象物的宽度和所述等离子体入射在所述沉积材料上的入射方向上的宽度确定，所述捕获装置捕获至少部分从所述沉积材料分离且位于所述运动区域的范围之外的材料粒子。

2.根据权利要求1所述的沉积设备，其中所述捕获装置包括：

网孔构件，所述网孔构件捕获除向着所述沉积对象物运动的材料粒子之外的至少部分材料粒子，和

保持所述网孔构件的保持构件，并且

在所述网孔构件和所述保持构件之间形成具有预定距离的间隙，以便捕获除向着所述沉积对象物运动的材料粒子之外的至少部分材料粒子。

3.根据权利要求1或2所述的沉积设备，其中所述捕获装置安装在等离子体供应到室中的等离子体供应方向的下游且与所述供应方向相对。

4.根据权利要求1或2所述的沉积设备，其中所述捕获装置安装成围绕所述容纳装置。

5.根据权利要求2所述的沉积设备，其中所述捕获装置包括可拆卸地支撑所述保持构件的支架。