[发明专利]清洗溶剂及清洗方法无效
| 申请号： | 200880019133.6 | 申请日： | 2008-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN101679922A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 永濑道臣;津崎真彰;光冈宏明 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | C11D7/50 | 分类号： | C11D7/50;B08B3/08;C11D7/26;C11D7/28 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 范 征;胡 烨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洗 溶剂 方法 | ||
1.一种清洗溶剂，它是清洗物品的清洗溶剂，其特征在于，包含87～ 94质量％的(2，2，2-三氟乙氧基)-1，1，2，2-四氟乙烷和6～13质量％的丙 酮。
2.如权利要求1所述的清洗溶剂，其特征在于，还包含0.1～5质量％ 的其他有机溶剂。
3.如权利要求1或2所述的清洗溶剂，其特征在于，用于除去附着于物 品的熔剂或含熔剂物质。
4.如权利要求3所述的清洗溶剂，其特征在于，物品为电子元器件排 列用托盘或丝网印刷版。
5.如权利要求3所述的清洗溶剂，其特征在于，熔剂或含熔剂物质为 非加热物质。
6.如权利要求4所述的清洗溶剂，其特征在于，熔剂或含熔剂物质为 非加热物质。
7.一种清洗方法，该方法包括使物品与第一清洗溶剂接触的溶剂接触 工序以及在所述溶剂接触工序后将所述物品暴露于使第二清洗溶剂蒸发而 产生的蒸气中的蒸气接触工序，其特征在于，第一清洗溶剂及第二清洗溶 剂为权利要求1～6中的任一项所述的清洗溶剂。
8.如权利要求7所述的清洗方法，其特征在于，在溶剂接触工序中， 使物品浸渍在收纳于浸渍槽的第一清洗溶剂中。
9.如权利要求8所述的清洗方法，其特征在于，在所述浸渍槽中产生 超声波。
10.如权利要求7～9中的任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述 第一清洗溶剂包含91～94质量％的(2，2，2-三氟乙氧基)-1，1，2，2-四氟乙 烷和6～9质量％的丙酮，且所述第二清洗溶剂包含87～90质量％的(2，2，2- 三氟乙氧基)-1，1，2，2-四氟乙烷和10～13质量％的丙酮。
11.如权利要求7～9中的任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述 第一清洗溶剂的温度为10～55℃。
12.如权利要求10所述的清洗方法，其特征在于，所述第一清洗溶剂 的温度为10～55℃。
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