[发明专利]形成于较大透镜阵列上的用于对像素群组内经移位的光电二极管位置进行调整的微透镜

权利要求书

1、一种微透镜结构，其包括：

第一透镜，其由像素阵列的一部分支撑，所述透镜的上表面具有相对于所述部分 的上表面的斜坡；及

至少一个微透镜，其由所述第一透镜支撑。

2、根据权利要求1所述的微透镜结构，其中多个微透镜由所述第一透镜支撑。

3、根据权利要求2所述的微透镜结构，其中所述多个微透镜中的每一者均是倾 斜的。

4、根据权利要求1所述的微透镜结构，其中所述第一透镜包括光致抗蚀剂材料。

5、根据权利要求1所述的微透镜结构，所述第一透镜及所述至少一个微透镜包 括相同材料。

6、根据权利要求1所述的微透镜结构，其中所述至少一个微透镜被直接支撑在 所述透镜上。

7、根据权利要求1所述的微透镜结构，其中多个微透镜由所述第一透镜支撑， 每一微透镜与形成有像素阵列的相应光敏装置相关联。

8、根据权利要求7所述的微透镜结构，其中每一微透镜与来自拜耳图案的色彩 相关联。

9、根据权利要求7所述的微透镜结构，其中每一微透镜与至少一个滤色片相关 联。

10、根据权利要求7所述的微透镜结构，其中四个微透镜由所述第一透镜支撑。

11、一种微透镜阵列，其包括：

多个透镜，其形成于像素阵列上方；及

多个微透镜，其位于每一透镜上。

12、根据权利要求11所述的微透镜阵列，其中每一透镜的微透镜支撑表面相对 于衬底的表面倾斜小于约10度。

13、根据权利要求11所述的微透镜阵列，其中每一透镜包括光致抗蚀剂材料。

14、根据权利要求11所述的微透镜阵列，其中每一微透镜包括光致抗蚀剂材料。

15、根据权利要求11所述的微透镜阵列，其中所述多个微透镜中的至少两者定 位于共用光敏装置上方，用于将入射光引导到所述共用光敏装置。

16、根据权利要求11所述的微透镜阵列，其中所述多个微透镜中的每一者定位 于相应光敏装置上方，用于将入射光引导到所述相应光敏装置。

17、一种成像器结构，其包括：

多个像素，其形成于衬底中；

多个透镜，其形成于所述多个像素上方；及

多个微透镜群组，每一微透镜群组与相关联透镜相关联且分别由所述相关联透镜 支撑，所述群组中的每一微透镜经定位以使入射光穿过所述相关联透镜行进到所述多 个像素中的至少一者。

18、根据权利要求17所述的成像器结构，其中每一透镜具有类似形状及在大致 相同方向上的斜坡。

19、根据权利要求17所述的成像器结构，其中所述透镜中的至少一者在形状上 为向上凸起且向下并远离所述透镜的中心成斜坡，其中所述斜坡在每一方向上大致对 称。

20、根据权利要求17所述的成像器结构，其中每一透镜及微透镜具有圆形形状。

21、根据权利要求17所述的成像器结构，其中每一透镜及微透镜具有正方形形 状。

22、一种图像处理系统，其包括：

处理器；及

成像器结构，其耦合到所述处理器，所述成像器结构包括：

像素阵列；

多个透镜，其形成于所述多个像素上方，每一透镜与多个像素相关联；及

多个微透镜群组，每一微透镜群组与相关联透镜相关联且分别由所述相关联透 镜支撑，所述群组中的每一微透镜经定位以使入射光行进到与所述透镜相关联的所 述多个像素中的至少一者。

23、根据权利要求22所述的图像处理系统，其中每一透镜具有类似的形状及在 大致相同方向上的斜坡。