[发明专利]曝光装置、曝光方法以及器件制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及曝光装置、曝光方法、以及器件制造方法，尤其是涉 及在制造半导体器件等微器件的光刻工艺中使用的曝光装置及曝光 方法、以及使用该曝光方法的器件制造方法。

背景技术

以往，在制造半导体器件(集成电路等)、液晶显示器件等电子器 件(微器件)的光刻工艺中，主要使用步进重复(step&repeat)方式的投 影曝光装置(所谓步进机)、或步进扫描(step&scan)方式的投影曝光装 置(所谓扫描步进机(也称扫描机))等曝光装置。

此种曝光装置，首先要求有高生产量。作为提升生产量的方法， 已提出了各种双晶片载台型的曝光装置(例如，参照美国专利第 6,262,796号说明书)，其采用设置多个、例如2个保持晶片的晶片载 台，对该2个载台进行不同操作的并行处理的方法。

此外，最近提出一种采用液浸法的双晶片载台型曝光装置(例如， 参照美国专利第7,161,659号说明书)。

然而，例如美国专利第7,161,659号说明书所记载的曝光装置具 备2个晶片载台的情形下，在各晶片载台于曝光位置(投影透镜下方的 位置)与进行晶片更换(及晶片对准)的位置之间的移动中，却存在用以 测量该晶片载台的位置的干涉仪系统无法进行测量的位置。

发明内容

本发明鉴于上述情况而作出，本发明第1方面提供第1曝光装置， 用能量束使物体曝光，具备：移动体，在其上保持该物体并且能够在 包含第1、第2、第3区域的预定范围的区域内基本上沿预定平面移 动，其中第1区域包含至少对所装载的该物体进行曝光的曝光位置， 第2区域位于该第1区域的第1方向的一侧、至少进行该物体的更换， 第3区域位于该第1区域与该第2区域之间；第1光栅部，配置在与 该移动体的基本上平行于该预定平面的表面相对的、与该预定平面平 行的平面上的与该第3区域对应的位置上；以及测量装置，包括：具 有设在该移动体的表面上的编码器读头、根据与该第1光栅部相对的 该编码器读头的输出来测量该移动体在该预定平面内的位置信息的 编码器系统；以及对设于该移动体上的反射面照射测量光束、测量该 移动体至少在该第1区域与该第2区域中的位置信息的干涉仪系统， 其中，该第3区域包含该测量光束脱离该反射面的该移动体的移动路 径。

据此，利用测量装置所包含的编码器系统，测量通过第3区域在 第1区域与第2区域间移动的移动体于预定平面内的位置信息。因此， 在包含测量装置中所包含的干涉仪系统的测量光束脱离设于移动体 上的反射面的移动体移动路径的第3区域，仅需在与预定平面平行的 面上的对应第3区域的位置配置第1光栅部，即能控制通过第3区域 在第1区域与前述第2区域间移动时的移动体于预定平面内的位置。

本发明第2方面提供第2曝光装置，用能量束使物体曝光，具备： 移动体，在其上保持该物体并且能够在包含第1、第2、第3区域的 预定范围的区域内基本上沿预定平面移动，其中第1区域包含至少对 所装载的该物体进行曝光的曝光位置，第2区域位于该第1区域的第 1方向的一侧、至少进行该物体的更换，第3区域位于该第1区域与 该第2区域之间；第1、第2及3光栅部，分别配置在与该移动体的 基本上平行于该预定平面的表面相对的、与该预定平面平行的平面上 的与该第1、第2及第3区域对应的位置上；以及测量装置，包括编 码器系统，该编码器系统具有设在该移动体的表面上的编码器读头， 根据与该第1、第2及第3光栅部中的任一者相对的该编码器读头的 输出，测量该移动体在该预定平面内的位置信息。

据此，利用测量装置所包含的编码器系统，不仅在第1区域内与 第2区域内移动时，在通过第3区域移动于第1区域与第2区域之间 时，也能测量移动体于预定平面内的位置信息。因此，通过在与预定 平面平行的面上的与第1、第2及第3区域对应的位置分别配置第1、 第2及第3光栅部，能够仅使用测量装置所含的编码器系统，不只是 在第1区域内与第2区域内移动时，而且在通过第3区域而在第1区 域与第2区域之间移动时，也能控制移动体于预定平面内的位置。